卫耀伟
- 作品数：39 被引量：29H指数：3
- 供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国工程物理研究院科学技术发展基金国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：理学电子电信化学工程自动化与计算机技术更多>>
- 渐变折射率薄膜制备参数获取方法、制备方法及滤光片
- 本发明提供了一种渐变折射率薄膜制备参数获取方法、制备方法及滤光片，属于薄膜制备工艺技术领域。所述制备参数获取方法包括：获取待制备的渐变折射率薄膜的制备数据，其中，所述制备数据包括所述渐变折射率薄膜的每个膜层的折射率和膜层...
- 卫耀伟刘浩蔡清元王震潘峰张哲刘志超吴倩罗晋欧阳升
- 一种光学薄膜沉积扫描控制方法及系统
- 本发明实施例提供了一种光学薄膜沉积扫描控制方法及系统，属于光学薄膜沉积扫描控制技术领域。所述方法包括：光电探测器将采集到的预设扫描区域内镀膜材料在电子束光斑扫描下熔化或升华时发出的光信号转化为电信号发送到数据处理装置；数...
- 王震张清华吴倩罗晋卫耀伟潘峰唐明刘志超郑轶李树刚张哲欧阳升汤鹏
- 文献传递
- 一种激光薄膜及其制备方法和应用
- 本发明提供一种激光薄膜及其制备方法和应用，涉及光学薄膜技术领域。一种激光薄膜的制备方法，包括：以HfCl<Sub>4</Sub>和SiCl<Sub>4</Sub>作为前驱体，在90～110℃的条件下采用原子层沉积法在衬底...
- 卫耀伟许乔张清华王建王震吴倩张飞潘峰
- 文献传递
- 一种挡板修正方法、镀膜方法和装置
- 本申请提供一种挡板修正方法、镀膜方法和装置，用于对平面行星式旋转镀膜工艺中挡板的形状进行修正，所述方法包括：获取待镀膜元件上多个待遮挡点的镀膜轨迹，以及获取每一待遮挡点对应的原始膜厚，以及获取待修正挡板中与多个待遮挡点对...
- 罗晋吴倩王震潘峰罗振飞杜雅薇胡建平卫耀伟张飞李树刚唐明王健张清华刘民才
- 文献传递
- 缺陷对HfO_2薄膜的激光弱吸收与损伤阈值的影响被引量：2
- 2015年
- 激光弱吸收是导致光学薄膜损伤的重要原因。在(5~43)mPa的氧分压下制备并测试了一组HfO2薄膜。实验发现,当氧分压小于20mPa时,薄膜弱吸收越大,损伤阈值越低;当氧分压大于20mPa时,薄膜的损伤阈值与弱吸收并不一一对应,具有较高弱吸收的薄膜可能同时具有较高的损伤阈值。建立了缺陷模型,采用有限元法模拟了缺陷对弱吸收测量和损伤阈值测量的影响,分析了缺陷尺寸、密度、吸收系数对弱吸收和损伤阈值的影响。研究结果显示,吸收系数高于薄膜1 000倍的缺陷可以降低薄膜的损伤阈值1 000倍,却并不影响薄膜的弱吸收。缺陷对HfO2薄膜的激光弱吸收与损伤阈值测试有完全不同的影响,是导致某些薄膜弱吸收与损伤阈值背离的原因。
- 刘浩潘峰卫耀伟马平张哲张清华吴倩
- 关键词：激光损伤阈值HFO2薄膜
- 薄膜品质检测方法、装置、电子设备及存储介质
- 本申请提供涉及一种薄膜品质检测方法、装置、电子设备及存储介质，涉及薄膜品质控制领域。上述薄膜品质检测方法包括：根据薄膜样品的物理数学模型和所述薄膜样品经椭偏检测获得的椭偏检测曲线，以薄膜材料的本征折射率色散表达式为特征参...
- 胡建平刘民才王震吴倩张飞卫耀伟王健
- 文献传递
- 缺陷对HfO2薄膜的激光弱吸收与损伤阈值的影响
- 激光弱吸收是导致光学薄膜损伤的重要原因。在0.7-2.7*10Pa的氧分压下制备并测试了一组HfO膜。实验发现,当氧分压小于1.2*10Pa时,薄膜弱吸收越大,损伤阈值越低;当氧分压大于1.2*10Pa时,薄膜的损伤阈值...
- 卫耀伟刘浩潘峰吴倩罗晋刘志超郑轶
- 文献传递
- 原子层沉积薄膜之激光损伤性能分析
- 2011年
- 采用目前尚在国内鲜有报道的原子层沉积技术在熔石英和BK7玻璃基片上镀制了TiO2单层膜、Al2O3单层膜以及TiO2/Al2O3增透膜,沉积温度在110℃和280℃。利用X射线粉末衍射仪对膜层微观结构进行了分析研究,并在激光损伤平台上进行了抗激光损伤阈值的测量。采用Nomarski微分干涉差显微镜和原子力显微镜对激光损伤后的形貌进行了观察分析。结果表明,采用原子层沉积技术镀制的膜层厚度均匀性较好,本实验中采用50mm样品的膜层厚度均匀性优于99%;光谱增透效果显著,在1064nm处的透过率大于99.8%;沉积温度影响着膜层的沉积速率、膜层微观结构,进而影响着膜层的抗激光损伤阈值。其中,熔石英和BK7基片上TiO2/Al2O3薄膜激光损伤阈值在110℃时分别为6.73±0.47J/cm2和6.5±0.46J/cm2,明显高于其在280℃时的损伤阈值。
- 卫耀伟陈松林刘志超马平许乔
- 关键词：薄膜光学
- 一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法
- 本发明公开了一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法，采用了镀膜过程基片面形和高低折射率膜层的综合控制方法：镀膜前针对基片在镀膜过程的形变，采用基片预先翻面退火的方法控制抵消镀膜过程中的基片面形受热引起的变化；采用调节充氧...
- 潘峰王健刘民才吴倩罗晋唐明王震张飞张清华卫耀伟李树刚
- 文献传递
- 结构参数计算方法和结构参数计算装置
- 本发明提供的结构参数计算方法和结构参数计算装置，涉及光学薄膜制造技术领域。所述结构参数计算方法包括：获取需要制作的激光反射膜的反射率、残余应力以及电场强度，其中，所述激光反射膜包括内部周期结构和外部匹配结构，所述内部周期...
- 潘峰王健马平卫耀伟张飞张清华刘民才
- 文献传递
