您的位置： 专家智库 > >

邓婉婷

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：大连理工大学更多>>
发文基金：教育部留学回国人员科研启动基金更多>>
相关领域：电子电信理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇会议论文
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇多晶
  • 3篇多晶硅
  • 3篇多晶硅薄膜
  • 3篇硅薄膜
  • 2篇等离子体增强
  • 2篇ECR-PE...
  • 1篇等离子体增强...
  • 1篇电子回旋共振
  • 1篇液相法
  • 1篇液相法制备
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇晶化率
  • 1篇类金刚石
  • 1篇类金刚石薄膜
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇光电
  • 1篇光电性
  • 1篇光电性能
  • 1篇光电转换

机构

  • 4篇大连理工大学

作者

  • 4篇邓婉婷
  • 2篇董闯
  • 2篇张广英
  • 2篇吴爱民
  • 2篇姜辛
  • 1篇秦富文
  • 1篇杜景永
  • 1篇张贵锋

传媒

  • 1篇原子能科学技...

年份

  • 1篇2008
  • 2篇2007
  • 1篇2005
共 4 条 记 录，以下是 1-4
全选 清除 导出
排序方式：
液相法制备DLC薄膜
类金刚石薄膜(DLC)的结构与性能取决于沉积方法和工艺。目前采用的制备方法有化学气相沉积和物理气相沉积法,如离子束沉积、微波等离子体辅助沉积、电子回旋共振、磁控溅射沉积和脉冲激光沉积等。这些方法仍存在一定的局限性:(1)...
杜景永张贵锋邓婉婷
关键词：类金刚石薄膜
文献传递
ECR-PECVD低温沉积多晶硅薄膜及其结构研究
采用电子回旋共振等离子增强化学气相沉积(ECR-PECVD)方法,以 SiH和 H为气源,在普通玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜。利用 XRD、Raman 光谱和 TEM 研究了衬底温度、氢气流量和微波功率对多晶硅薄膜的影响。通...
邓婉婷吴爱民张广英秦富文董闯姜辛
关键词：ECR-PECVD多晶硅薄膜晶化率
文献传递
多晶硅薄膜ECR-PECVD低温生长结构研究
多晶硅(Poly-Si)薄膜以其优异的光电性能与较低的制备成本，在能源信息产业中日益成为一种非常重要的电子材料，在大规模集成电路和半导体分立器件中得到广泛应用。目前多晶硅薄膜的发展趋势为低成本和高光电转换效率。为极大限度...
邓婉婷
关键词：多晶硅薄膜光电性能电子回旋共振等离子体增强
文献传递
多晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积低温制备工艺
2007年
采用电子回旋共振等离子增强化学气相沉积(ECR-PECvD)方法,以SiH4和H2为气源,在普通玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜.利用XRD、Raman光谱和TEM研究了衬底温度、氢气流量和微波功率对多晶硅薄膜结构的影响.结果表明,制得的多晶硅薄膜多以(220)取向择优生长,少数条件下会呈现(111)择优取向.当衬底温度为300℃、H2流速为25 mL/min、微波功率为600 W时,多晶硅薄膜结晶状态最好,且呈最佳的(220)取向.
邓婉婷吴爱民张广英秦富文董闯姜辛
关键词：多晶硅薄膜
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0