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文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇学位论文
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领域

  • 2篇理学
  • 1篇经济管理
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇多层膜
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米多层膜
  • 2篇金属
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  • 2篇金属基体
  • 2篇溅射
  • 2篇反应磁控溅射
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  • 2篇高温抗氧化性
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  • 2篇ALON
  • 2篇超硬效应
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 2篇TIN
  • 1篇刀具
  • 1篇阴极
  • 1篇硬质
  • 1篇硬质薄膜

机构

  • 7篇上海交通大学

作者

  • 7篇吴莹
  • 5篇李戈扬
  • 4篇黄碧龙
  • 3篇戴嘉维
  • 3篇孔明
  • 1篇赵文济
  • 1篇李广泽
  • 1篇吴昕蔚

传媒

  • 1篇无机材料学报
  • 1篇表面技术
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 2篇2008
  • 4篇2007
  • 1篇1991
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
VN//SiO/_2和TiAlN//Si/_3N/_4纳米多层膜的微结构、超硬效应与高温稳定性
纳米多层膜的高硬度和材料组合的多样性使其在刀具涂层等表面改性领域有广阔的应用前景,而这类材料通过微结构强化获得高硬度的超硬效应更具理论研究价值。 近年来的研究表明,利用纳米多层膜晶体生长的“模板效应”可以使通...
吴莹
关键词:超硬效应高温稳定性
文献传递
AlN/SiO_2纳米多层膜的超硬效应与高温抗氧化性被引量:4
2008年
采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO_2层厚的AlN/SiO_2纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了多层膜微结构与力学性能随SiO_2层厚的变化,考察了AlN/SiO_2纳米多层膜的高温抗氧化性.结果表明,受AlN层晶体结构的模板作用,溅射条件下以非晶态存在的SiO_2层在厚度<0.6nm时被强制晶化为与AlN相同的六方结构赝晶体,并与AlN形成共格外延生长结构,多层膜相应产生硬度升高的超硬效应.SiO_2随自身层厚的进一步增加又转变为以非晶态生长,致使多层膜的外延生长结构受到破坏,其硬度也随之降低.高温退火研究表明,高硬度的AlN/SiO_2纳米多层膜的抗氧化温度为800℃,与AlN单层膜相当.SiO_2层的加入尽管能使多层膜获得较高硬度,但是并不能提高其抗氧化温度.
吴莹赵文济孔明黄碧龙李戈扬
关键词:超硬效应抗氧化性
用于切削工具的TiN/AlON纳米多层涂层反应磁控溅射制备方法
本发明涉及的是一种用于切削工具技术领域的TiN/AlON纳米多层涂层反应磁控溅射制备方法。分别采用直流阴极控制的Ti靶和射频阴极控制的Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>靶,通过在Ar气和N<Sub>2...
孔明李戈扬戴嘉维黄碧龙吴莹
文献传递
反应溅射Ti(O,N)涂层的微结构与力学性能被引量:2
2007年
采用反应磁控溅射方法在Ar、N2和O2混合气氛中制备了一系列Ti(O,N)涂层,并采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针研究了氧分压对涂层的化学成分、微结构和力学性能的影响。结果表明:随混合气氛中氧分压的提高,涂层中的氧含量逐步增加,氮含量相应减少,但涂层始终保持与TiN相同的NaC l结构。少量氧的加入,可以改善涂层的结晶状态,涂层的硬度也相应升高,明显高于未含氧的TiN涂层的硬度。氧含量为8.0%(原子数分数)时,涂层硬度达到最大值26.2 GPa。进一步增加氧含量,涂层的硬度基本保持不变。
吴莹吴昕蔚李广泽李戈扬
关键词:反应磁控溅射微结构力学性能
合资企业经济财务问题分析
吴莹
金属基体上硬质薄膜内应力的释放测量法
2007年
提出了一种基于Stoney公式测量金属基体上硬质薄膜内应力的应力释放法,并研究了不同基底温度对磁控溅射TiN薄膜内应力的影响。
黄碧龙吴莹戴嘉维李戈扬
关键词:硬质薄膜内应力
用于切削工具的TiN/AlON纳米多层涂层
本发明涉及的是一种用于切削工具技术领域的用于切削工具的TiN/AlON纳米多层涂层。由TiN层和AlON层交替沉积在硬质合金、陶瓷或金属基体上形成,TiN层的厚度为3~5nm,AlON层厚为0.3~0.8nm,涂层总厚度...
孔明李戈扬戴嘉维黄碧龙吴莹
文献传递
共1页<1>
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