赵文济
- 作品数：17 被引量：48H指数：4
- 供职机构：上海交通大学材料科学与工程学院金属基复合材料国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市科学技术发展基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术化学工程电气工程更多>>
- VN/SiO<Sub>2</Sub>纳米多层涂层及其制备方法
- 一种VN/SiO<Sub>2</Sub>纳米多层涂层及其制备方法，属于陶瓷涂层领域。VN/SiO<Sub>2</Sub>高硬度纳米多层涂层由VN层和SiO<Sub>2</Sub>层交替沉积在金属、硬质合金或陶瓷基底上形成...
- 岳建岭李戈扬赵文济戴嘉维
- 文献传递
- AlN/SiO_2纳米多层膜的超硬效应与高温抗氧化性被引量：4
- 2008年
- 采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO_2层厚的AlN/SiO_2纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了多层膜微结构与力学性能随SiO_2层厚的变化,考察了AlN/SiO_2纳米多层膜的高温抗氧化性.结果表明,受AlN层晶体结构的模板作用,溅射条件下以非晶态存在的SiO_2层在厚度<0.6nm时被强制晶化为与AlN相同的六方结构赝晶体,并与AlN形成共格外延生长结构,多层膜相应产生硬度升高的超硬效应.SiO_2随自身层厚的进一步增加又转变为以非晶态生长,致使多层膜的外延生长结构受到破坏,其硬度也随之降低.高温退火研究表明,高硬度的AlN/SiO_2纳米多层膜的抗氧化温度为800℃,与AlN单层膜相当.SiO_2层的加入尽管能使多层膜获得较高硬度,但是并不能提高其抗氧化温度.
- 吴莹赵文济孔明黄碧龙李戈扬
- 关键词：超硬效应抗氧化性
- 纳米多层膜中的交变应力场与超硬效应被引量：3
- 2004年
- 张惠娟袁家栋许辉赵文济李戈扬
- 关键词：陶瓷材料纳米多层膜交变应力场超硬效应透射电子显微镜显微结构分析
- Si_3N_4在h-AlN上的晶体化与AlN/Si_3N_4纳米多层膜的超硬效应被引量：3
- 2009年
- 采用反应磁控溅射法制备了一系列具有不同Si3N4层厚度的AlN/Si3N4纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能.研究了Si3N4层在AlN/Si3N4纳米多层膜中的晶化现象及其对多层膜生长结构与力学性能的影响.结果表明,在六方纤锌矿结构的晶体AlN调制层的模板作用下,通常溅射条件下以非晶态存在的Si3N4层在其厚度小于约1nm时被强制晶化为结构与AlN相同的赝形晶体,AlN/Si3N4纳米多层膜形成共格外延生长的结构,相应地,多层膜产生硬度升高的超硬效应.Si3N4随层厚的进一步增加又转变为非晶态,多层膜的共格生长结构因而受到破坏,其硬度也随之降低.分析认为,AlN/Si3N4纳米多层膜超硬效应的产生与多层膜共格外延生长所形成的拉压交变应力场导致的两调制层模量差的增大有关.
- 乌晓燕孔明赵文济李戈扬
- 关键词：超硬效应
- AlN/SiO<Sub>2</Sub>纳米多层硬质薄膜
- 一种AlN/SiO<Sub>2</Sub>纳米多层硬质薄膜，属于陶瓷薄膜领域。本发明由AlN层和SiO<Sub>2</Sub>层交替沉积在金属或陶瓷基底上形成，AlN层的厚度为3～6nm，SiO<Sub>2</Sub>层...
- 李戈扬赵文济孔明戴嘉维
- 文献传递
- TiN／Si_3N_4纳米多层膜硬度对Si_3N_4层厚敏感性的研究被引量：5
- 2007年
- 通过反应磁控溅射制备了一系列不同Si_3N_4层厚的TiN/Si_3N_4纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和硬度,研究了其硬度随Si_3N_4层厚微小改变而显著变化的原因．结果表明,在TiN调制层晶体结构的模板作用下,溅射态以非晶存在的Si_3N_4层在其厚度小于0．7nm时被强制晶化为NaCl结构的赝晶体,多层膜形成共格外延生长的{111}择优取向超晶格柱状晶,并相应产生硬度显著升高的超硬效应,最高硬度达到38．5 GPa．Si_3N_4随自身层厚进一步的微小增加便转变为非晶态,多层膜的共格生长结构因而受到破坏,其硬度也随之降低．
- 赵文济孔明乌晓燕李戈扬
- 关键词：晶化超硬效应
- AlN基纳米多层膜的生长结构、超硬机制及高温稳定性研究
- 以TiN为代表的陶瓷硬质薄膜在刀具涂层上的成功应用有力地推动了制造业的发展。高速、干式切削等加工技术的进步对刀具涂层提出了更高的要求。
作为一种通过微结构设计强化的材料，纳米多层膜不仅可因其超硬效应获得高硬度，...
- 赵文济
- 关键词：纳米多层膜非晶晶化超硬效应交变应力场高温稳定性
- 文献传递
- 反应溅射VN/SiO_2纳米多层膜的微结构与力学性能被引量：10
- 2007年
- 采用V和SiO2靶通过反应溅射方法制备了一系列具有不同SiO2和VN调制层厚的VN/SiO2纳米多层膜.利用X射线衍射、X射线能量色散谱、高分辨电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能.结果表明:在Ar,N2混和气体中,射频反应溅射的SiO2薄膜不会渗氮.单层膜时以非晶态存在的SiO2,当其厚度小于1nm时,在多层膜中因VN晶体层的模板效应被强制晶化,并与VN层形成共格外延生长.相应地,多层膜的硬度得到明显提高,最高硬度达34GPa.随SiO2层厚度的进一步增加,SiO2层逐渐转变为非晶态,破坏了与VN层的共格外延生长结构,多层膜硬度也随之降低.VN调制层的改变对多层膜的生长结构和力学性能也有影响,但并不明显.
- 岳建岭孔明赵文济李戈扬
- 关键词：纳米多层膜非晶晶化超硬效应
- SiO_2的赝晶化及AlN/SiO_2纳米多层膜的超硬效应被引量：3
- 2007年
- 采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO2层厚度的AlN/SiO2纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了SiO2层在多层膜中的晶化现象及其对多层膜生长方式及力学性能的影响.结果表明,由于受AlN六方晶体结构的模板作用,溅射条件下以非晶态存在的SiO2层在其厚度小于0.6nm时被强制晶化为与AlN相同的六方结构赝晶体并与AlN形成共格外延生长.由于不同模量的两调制层存在晶格错配度,多层膜中产生了拉、压交变的应力场,使得多层膜产生硬度升高的超硬效应.SiO2随层厚的进一步增加又转变为以非晶态生长,多层膜的外延生长结构受到破坏,其硬度也随之降低.
- 赵文济孔明黄碧龙李戈扬
- 关键词：应力场超硬效应
- AlN/SiO<Sub>2</Sub>纳米多层硬质薄膜
- 一种AlN/SiO<Sub>2</Sub>纳米多层硬质薄膜，属于陶瓷薄膜领域。本发明由AlN层和SiO<Sub>2</Sub>层交替沉积在金属或陶瓷基底上形成，AlN层的厚度为3～6nm，SiO<Sub>2</Sub>层...
- 李戈扬赵文济孔明戴嘉维
- 文献传递
