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谢锋

作品数:12 被引量:37H指数:2
供职机构:复旦大学更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术医药卫生机械工程更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 4篇学位论文
  • 2篇专利

领域

  • 5篇电子电信
  • 3篇自动化与计算...
  • 3篇医药卫生
  • 1篇机械工程

主题

  • 5篇电镜
  • 4篇射电
  • 4篇透射电镜
  • 2篇电路
  • 2篇扫描电子显微...
  • 2篇探头
  • 2篇透射电子显微...
  • 2篇集成电路
  • 2篇半导体
  • 2篇SEM
  • 2篇TEM
  • 2篇
  • 2篇超声
  • 2篇超声探头
  • 2篇超声图
  • 2篇超声图像
  • 1篇电镜观察
  • 1篇电子显微分析
  • 1篇电子显微镜
  • 1篇多维数据

机构

  • 12篇复旦大学
  • 1篇扬州大学

作者

  • 12篇谢锋
  • 6篇胡刚
  • 6篇刘剑霜
  • 6篇陈一
  • 2篇刘成成
  • 2篇他得安
  • 1篇吴晓京
  • 1篇朱烨

传媒

  • 2篇半导体技术
  • 2篇集成电路应用
  • 1篇计量技术
  • 1篇上海计量测试

年份

  • 2篇2024
  • 1篇2013
  • 1篇2005
  • 3篇2004
  • 5篇2003
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
扫描电子显微镜被引量:30
2003年
随着科学技术的发展进步,人们不断需要从更高的微观层次观察、认识周围的物质世界.细胞、微生物等微米尺度的物体直接用肉眼观察不到,显微镜的发明解决了这个问题.目前,纳米科技成为研究热点,集成电路工艺加工的特征尺度进入深亚微米,所有这些更加微小的物体光学显微镜也观察不到,必须使用电子显微镜.电子显微镜可分为扫描电子显微镜简称扫描电镜(SEM)和透射电子显微镜简称透射电镜(TEM)两大类.
刘剑霜谢锋吴晓京陈一胡刚
关键词:扫描电子显微镜二次电子
一种手持式超声采集方法
本发明涉及一种手持式超声采集方法,方法包括:步骤1、设置待检测物体,获取待检测物体位置,根据所述待检测物体位置调整手持式超声探头的角度和位置;步骤2、根据所述待检测物体位置,基于手持式超声探头获取待检测物体图像,向待检测...
谢锋刘成成李博艺他得安
SEM与TEM半导体分析的比较
2003年
本文简要介绍扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)的特点。分别介绍它们在半导体分析中的一些特点与局限。SEM分析与TEM分析在半导体显微分析中分别承担着各自任务,它们之间的关系是互补的关系。
胡刚陈一谢锋刘剑霜朱烨
关键词:SEMTEM半导体扫描电镜透射电镜显微技术
用透射电镜分析硅中的缺陷
在对半导体材料的结构缺陷进行观察时,透射电子显微镜有着其他观察仪器不可比拟的优越性,透射电子显微镜主要使用的像的技术有:质厚衬度像、衍射衬度像、位相衬度像,它们的适用范围各不相同.其中,高分辨电子显微像可以在实空间内直接...
谢锋
关键词:位错层错透射电镜
文献传递
一种高分辨力电镜放大倍率的校准方法被引量:1
2005年
针对集成电路制造中TEM检测分析的高正确度要求,本文介绍了一种高分辨力电子显微镜放大倍率的校准方法。该方法简单、方便,能够有效地减少系统误差,结果可靠,适用范围广。
刘剑霜谢锋胡刚陈一盛克平
关键词:透射电子显微镜放大倍率校准
应用母胎免疫及胎儿遗传物质评估新生儿ABO溶血病
研究目的:ABO母儿血型不合是中国新生儿溶血病(HDN)的主要原因,目前尚缺乏有效无创的产前诊断方法.我们对孕妇外周血进行一系列检查,包括:血清学试验检测血型同种抗体、单核细胞单层试验(MMA)检测抗体活性、流式细胞仪检...
谢锋
关键词:ABO血型新生儿溶血病抗体效价流式细胞仪
文献传递
硅中缺陷的透射电镜观察被引量:2
2004年
随着集成电路制造工艺技术的不断进步,器件线宽不断减小,硅材料中缺陷的危害越来越不可忽视。通过TEM观察了硅中氧沉积、工艺诱生缺陷等并对之进行了分析。
谢锋刘剑霜陈一胡刚
关键词:集成电路透射电镜
美国新药注册制度及其与中国相关制度的比较研究
药品是一种特殊的商品,它与人民的健康密切相关.在新药的发展过程中,政府部门起到了门户的作用:即要让安全有效,质量可控的新药及时获得上市许可,以提高社会的健康保健水平;同时又要防止对人体有害的药品进入市场,危害公民的身体健...
谢锋
文献传递
用电子显微镜剖析存储器器件被引量:4
2004年
简要介绍了扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)两种当前主要的电子显微分析工具在存储器器件分析过程中的应用,讨论了它们各自的适用范围以及测量精度,指出两者的有机结合可以得到比较全面的分析结果。
刘剑霜谢锋陈一胡刚
关键词:电子显微镜存储器透射电镜栅氧化层集成电路
半导体制造中的电子显微分析
2003年
集成电路的特征尺寸越来越小,电子显微分析在微电子制造中成为不可缺少、不可替代的重要分析手段。本文根据扫描电子显微镜(SEM)及透射电子显微镜(TEM)在实际分析中的特长与局限,主要就仪器分辨率与结果的精确度的问题,讨论如何将两种分析技术有机地结合起来,扬长避短,取得最佳效果。
谢锋刘剑霜陈一胡刚
关键词:半导体制造电子显微分析扫描电子显微镜透射电子显微镜SEMTEM
共2页<12>
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