您的位置: 专家智库 > >

武长强

作品数:6 被引量:5H指数:1
供职机构:天津理工大学更多>>
发文基金:天津市高等学校科技发展基金计划项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇自动化与计算...

主题

  • 4篇存储器
  • 3篇叠层
  • 3篇叠层结构
  • 3篇氧化钒
  • 3篇层结构
  • 2篇单极性
  • 2篇氧化锌
  • 2篇射频溅射
  • 2篇开关特性
  • 2篇溅射
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硼
  • 1篇电极
  • 1篇电极材料
  • 1篇电流
  • 1篇电流密度
  • 1篇性能研究
  • 1篇氧化钛
  • 1篇声表面波
  • 1篇声表面波器件

机构

  • 6篇天津理工大学

作者

  • 6篇武长强
  • 4篇王芳
  • 4篇张楷亮
  • 4篇赵金石
  • 2篇孙阔
  • 2篇陆涛
  • 2篇刘凯
  • 1篇祝俊刚
  • 1篇胡智翔
  • 1篇杨保和
  • 1篇狄海荣
  • 1篇薛玉明
  • 1篇王麒
  • 1篇辛志军
  • 1篇韦晓莹

传媒

  • 1篇光电子.激光

年份

  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 3篇2011
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
基于TiO2柔性阻变存储器性能研究
近年来,随着电子产品的快速发展,人们对于轻便超便携,低功耗及高密度快速存储设备的要求越来越高,而且鉴于传统Flash存储器在集成电路工艺技术发展中受到限制,新型非挥发性存储器,如RRAM(ResistiveRandomA...
武长强
关键词:氧化钛电极材料开关特性
一种高性能多层薄膜结构声表面波器件的制备方法
一种高性能多层薄膜结构声表面波器件的制备方法,其衬底为化学汽相沉积CVD金刚石薄膜,在CVD金刚石薄膜衬底表面形成有一层六方氮化硼h-BN薄膜,该薄膜采用真空溅射法沉积,其衬底为镜面抛光硅衬底,晶面指数为100,真空溅射...
薛玉明杨保和祝俊刚辛志军狄海荣武长强
文献传递
基于氧化钒/氧化锌叠层结构的阻变存储器及其制备方法
一种基于氧化钒/氧化锌叠层结构的阻变存储器,由下电极、阻变层和上电极构成,阻变层为由氧化钒介质层和氧化锌介质层组成的叠层结构,氧化钒介质层和氧化锌介质层薄膜采用直流溅射或射频溅射法制备。本发明的优点是:该阻变存储器采用氧...
张楷亮孙阔王芳陆涛刘凯武长强赵金石
文献传递
氧化钒薄膜的制备及电致开关特性的研究被引量:4
2011年
采用反应溅射法,室温下,在Cu/Ti/SiO2/Si衬底上制备了氧化钒(VOx)薄膜,并对薄膜进行450℃、30min的真空退火处理。采用X-射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)对薄膜的结晶取向和表面形貌进行了表征,通过半导体参数分析仪对薄膜的电开关特性进行测试,并利用导电原子力显微镜(CAFM)对VOx薄膜的导电机制进行了探索。测试结果表明,VOx薄膜在Cu/Ti/SiO2/Si衬底取向生长,并且是以V2O5为主的V6O13和V2O5的混合物,薄膜表面颗粒大小均匀(30~40 nm),粗糙度为2.4 nm。电学测试结果表明薄膜具有较低(Vset=0.72 V,Vreset=0.39 V)的开关电压,开关电阻的转变倍率约3个数量级,经CAFM测试发现,VOx薄膜导电态中有导电细丝,结合VOx/Cu界面态及Cu离子快扩散特性,认为VOx薄膜导电态主要是Cu离子在薄膜中扩散形成的导电细丝所致。
张楷亮韦晓莹王芳武长强赵金石
基于氧化钒/氧化锌叠层结构的阻变存储器及其制备方法
一种基于氧化钒/氧化锌叠层结构的阻变存储器,由下电极、阻变层和上电极构成,阻变层为由氧化钒介质层和氧化锌介质层组成的叠层结构,氧化钒介质层和氧化锌介质层薄膜采用直流溅射或射频溅射法制备。本发明的优点是:该阻变存储器采用氧...
张楷亮孙阔王芳陆涛刘凯武长强赵金石
一种含有快速开关器件的阻变型存储器单元及其制备方法
一种含有快速开关器件的阻变型存储器单元,其基本单元由下电极、阻变存储功能层、中间电极、开关器件功能层、上电极和绝缘层构成,两个功能层镶嵌在三个电极之间并形成五叠层结构,三个电极和两个功能层位于绝缘层的孔洞中。本发明的优点...
张楷亮王麒王芳武长强赵金石胡智翔
文献传递
共1页<1>
聚类工具0