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林永清

作品数:2 被引量:6H指数:1
供职机构:哈尔滨工业大学材料科学与工程学院先进焊接与连接国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇离子镀
  • 2篇脉冲偏压
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇多弧离子镀
  • 1篇无机非金属
  • 1篇无机非金属材...
  • 1篇膜层
  • 1篇耐磨
  • 1篇耐磨性
  • 1篇非金属材料
  • 1篇高速钢
  • 1篇TIALN
  • 1篇TIN膜
  • 1篇TIN膜层
  • 1篇M2高速钢

机构

  • 2篇哈尔滨工业大...
  • 1篇沈阳市北宇真...

作者

  • 2篇田修波
  • 2篇魏永强
  • 2篇巩春志
  • 2篇林永清
  • 2篇杨士勤
  • 1篇关秉羽

传媒

  • 1篇材料研究学报

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2008
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
脉冲偏压对分离靶多弧离子镀TiAlN薄膜结构和硬度的影响
本文利用分离的钛、铝靶多弧离子镀的方法,在M2高速钢表面沉积了TiAlN复合薄膜,通过改变基体脉冲偏压的幅值,引起离子流量和离子能量的变化,实现TiAlN复合薄膜的相结构和Al/Ti元素成分的变化。XRD和EDS分析结果...
魏永强巩春志林永清杨士勤田修波
关键词:多弧离子镀TIALN脉冲偏压M2高速钢
文献传递
脉冲偏压对矩形平面大弧源离子镀TiN膜层性能的影响被引量:6
2008年
采用矩形平面大弧源离子镀技术在201奥氏体不锈钢基体表面制备TiN硬质薄膜,研究了脉冲偏压对TiN膜层的表面形貌、相结构、硬度和耐磨性能的影响.结果表明,随着脉冲偏压的增大,薄膜中大颗粒的数目先增加后减少,这是大颗粒受到离子拖曳力和电场力双重作用的结果.存在一个最佳的脉冲偏压,使得制备出的TiN膜层具有较高的I_(111)/I_(200)比例和较高的耐磨性.脉冲偏压为-300 V时制备的TiN膜层具有最好的综合性能.
林永清巩春志魏永强田修波杨士勤关秉羽于传跃
关键词:无机非金属材料离子镀脉冲偏压氮化钛耐磨性
共1页<1>
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