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宋毅锋

作品数：2 被引量：2H指数：1
供职机构：复旦大学材料科学系更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇杂质浓度分布
  • 1篇外延层
  • 1篇半导体
  • 1篇掺杂

机构

  • 2篇复旦大学

作者

  • 2篇宋毅锋
  • 1篇杨恒青

传媒

  • 1篇复旦学报（自...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2005
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
掺杂外延层中杂质浓度分布的计算
在半导体器件制造的外延工艺中，外延生长时通常要掺入杂质。如果杂质的扩散系数很小，杂质在外延层中的深度分布是均匀的。如果杂质的扩散系数较大，半导体在外延生长过程中，杂质还有较明显的扩散，也会扩散到衬底中去。杂质浓度随深度分...
宋毅锋
关键词：杂质浓度分布
文献传递
半导体外延掺杂的深度分布——“修正的”余误差分布被引量：1
2008年
在制造半导体器件的外延工艺中,外延生长时通常要掺入杂质.如果杂质的扩散系数很小,杂质在外延层中的深度分布是均匀的;如果杂质的扩散系数较大,半导体在外延生长过程中,杂质还有较明显的扩散,也会扩散到衬底中去.杂质浓度随深度分布不仅和杂质的扩散系数有关,还和外延生长速度及外延生长时间有关.从理论上推导出掺杂外延生长时杂质浓度深度分布表达式——"修正的"余误差分布;并根据该表达式绘出不同扩散系数和不同外延生长条件下的杂质浓度深度分布图;讨论了由杂质浓度深度分布确定扩散系数的实验条件.
杨恒青宋毅锋
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