周艳
- 作品数：34 被引量：27H指数：3
- 供职机构：清华大学研究院更多>>
- 发文基金：国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：金属学及工艺机械工程自动化与计算机技术电子电信更多>>
- 抛光液特性对计算机硬盘盘基片表面抛光性能的影响
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- 一种用于砷化镓晶片的抛光组合物及其制备方法
- 本发明公开了半导体制造技术领域的一种用于砷化镓晶片的抛光组合物及其制备方法。抛光组合物含有磨料、氧化剂、表面修饰剂、碱和水，各组分配比分别为：磨料为1～50wt％，氧化剂为0.1～20wt％，表面修饰剂含量为0.0002...
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- 文献传递
- 基于SharePoint技术的企业内容管理网站迁移与实现
- 周艳
- 关键词：内容管理工作流
- 半导体GaAs晶片表面化学机械抛光研究
- 周艳潘国顺朱永华刘岩
- LED蓝宝石衬底抛光表面原子台阶形貌及其周期性研究被引量：11
- 2017年
- LED蓝宝石衬底的表面质量会极大影响到后续外延质量,进而影响到LED器件性能。蓝宝石研磨片经Al2O3磨粒粗抛液、SiO2磨粒精抛液下进行化学机械抛光(CMP),最终表面经原子力显微镜(AFM)所测表面粗糙度达到0.101nm,获得亚纳米级粗糙度超光滑表面,并呈现出原子台阶形貌。同时,通过使用Zygo表面形貌仪、AFM观察蓝宝石从研磨片经Al2O3粗抛液、SiO2精抛液抛光后的表面变化,阐述蓝宝石表面原子台阶形貌的形成原因,提出蓝宝石原子级超光滑表面形成的CMP去除机理。通过控制蓝宝石抛光中的工艺条件,获得a-a型、a-b型两种不同周期规律性的台阶形貌表面,并探讨不同周期规律性台阶形貌的形成机理。
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- 关键词：化学机械抛光蓝宝石
- 用于超硬材料的化学机械平坦化抛光垫及制备、抛光方法
- 本发明涉及一种用于超硬材料的化学机械平坦化抛光垫及制备、抛光方法，属于化学机械平坦化领域，特别涉及超硬材料的化学机械平坦化技术领域。本发明的抛光垫包括抛光垫基材和催化剂，抛光垫基材肖氏硬度为60-90、压缩率为3.0-1...
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- 文献传递
- 插电式混合动力系统构型的选择方法
- 本申请涉及一种插电式混合动力系统构型的选择方法，所插电式混合动力系统构型的选择方法，通过基于自身研发资源的筛选，可以有效的缩小插电式混合动力系统构型的选取范围。通过将基于动态规划的全局优化控制策略与基于正交试验设计方法的...
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- 文献传递
- 大尺寸硅片边缘的抛光液、抛光液制备方法及抛光方法
- 本发明实施例公开了一种大尺寸硅片边缘的抛光液、抛光液制备方法及抛光方法，所述抛光液包括下述以重量百分比计的组分：磨粒5～50 wt%；碱性腐蚀剂0.1～10 wt%；分散剂0.01～1 wt%；酸性物质0.1～10 wt...
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- 文献传递
- 抛光液组分对硬盘盘基片超光滑表面抛光的影响被引量：6
- 2012年
- 在硬盘盘基片的最终抛光中,研究SiO2溶胶颗粒、氧化剂、络合剂和润滑剂对盘基片Ni-P材料抛光性能的变化规律,获得较高的材料去除速率(MRR)和原子级光滑表面,以满足下一代硬盘盘基片制造的更高要求.结果表明,采用平均粒径25 nm的SiO2溶胶颗粒,易减少微划痕等缺陷;以过氧化氢为氧化剂,可大幅提高MRR;加入有机酸络合剂后,MRR显著增大,其中含有水杨酸的抛光液MRR最大,并讨论不同络合剂对盘基片去除的影响机理;丙三醇润滑剂的引入,使抛光中摩擦系数减小,盘基片的表面粗糙度得到明显降低.采用原子力显微镜(AFM)、光学显微镜和Chapman MP2000+表面形貌仪来考察盘基片抛光后的表面质量,基于抛光液各组分的影响作用,最终获得表面粗糙度Ra为0.08 nm的盘基片表面,且MRR达到0.132μm/min.
- 周艳罗桂海潘国顺
- 关键词：络合剂
- 用于超硬材料的化学机械平坦化抛光垫及制备、抛光方法
- 本发明涉及一种用于超硬材料的化学机械平坦化抛光垫及制备、抛光方法，属于化学机械平坦化领域，特别涉及超硬材料的化学机械平坦化技术领域。本发明的抛光垫包括抛光垫基材和催化剂，抛光垫基材肖氏硬度为60-90、压缩率为3.0-1...
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- 文献传递
