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刘颖敏

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室更多>>
发文基金：国防民口配套项目国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇多层膜
  • 1篇极紫外
  • 1篇残余应力

机构

  • 1篇中国科学院长...

作者

  • 1篇张立超
  • 1篇向鹏
  • 1篇金春水
  • 1篇金伟华
  • 1篇刘颖敏
  • 1篇曹健林

传媒

  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 1篇2005
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
极紫外多层膜残余应力初步研究被引量：3
2005年
针对极紫外多层膜在激光等离子体诊断、极紫外光刻等方面的应用,进行了Mo/Si多层膜残余应力的实验研究,讨论了多层膜残余应力的成因。实验结果表明:Mo单层膜表现为张应力, Si单层膜表现为压应力;通过传统方法制备的13.0 nm处高反射率的40对Mo/Si多层膜会产生-500 MPa左右的压应力,其压应力主要是由膜层之间的贯穿扩散引起的;通过改变膜层比率可以在一定程度上补偿因贯穿扩散产生的压应力,但是以牺牲多层膜反射率为代价。
向鹏金春水张立超金伟华刘颖敏曹健林
关键词：极紫外多层膜残余应力
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