刘颍龙
- 作品数：2 被引量：7H指数：2
- 供职机构：上海理工大学机械工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术更多>>
- 磁控溅射法制备纳米晶钛薄膜工艺研究被引量：2
- 2013年
- 利用直流磁控溅射法在硅基底上沉积出纳米晶钛薄膜,研究了背底真空度、溅射功率和基底温度对纳米晶钛薄膜结构的影响。实验证明,当背底真空度高于8.8×10-5 Pa时,可制备出致密的纳米晶钛薄膜,当背底真空度低于2.0×10-4 Pa时,钛薄膜被氧化成一氧化钛薄膜;随着溅射功率的增大,纳米晶钛膜的晶粒尺寸呈线性增大,同时钛薄膜的取向也发生改变,表现出明显的(002)织构;随着温度的升高,钛薄膜织构取向发生改变,当温度为500℃时,钛薄膜被氧化为一氧化钛薄膜。制成平整钛薄膜的工艺条件为:背底真空度8.8×10-5 Pa,溅射功率200 W,基底温度室温。
- 张番刘芳陈爱英刘颍龙
- 关键词：磁控溅射织构
- 偏压对钛薄膜显微组织及力学性能的影响(英文)被引量：5
- 2014年
- 为了研究纳米结构金属Ti的纳米力学性能,在偏压为0-140 V的范围内,采用磁控溅射方法制备纯钛薄膜。并采用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和高分辨率透射电子显微镜（HRTEM）表征钛薄膜的显微组织。结果表明：钛薄膜呈现非晶与纳米晶的混合结构,且晶化程度随着偏压的升高而增大。纳米压痕测试结果表明：钛薄膜的硬度与晶粒尺寸在6-15 nm的范围内符合Hall-Petch关系。但其Hall-Petch关系的斜率与采用其他强烈塑性变形法制备的超细晶纯钛相比,明显偏小,且呈现软化趋势。此外,讨论偏压对钛薄膜生长取向的影响。
- 刘颍龙刘芳吴倩陈爱英李翔潘登
- 关键词：磁控溅射偏压纳米晶HALL-PETCH关系
