李晓静
- 作品数:91 被引量:47H指数:4
- 供职机构:中国兵器科学研究院更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金宁波市自然科学基金国家教育部博士点基金更多>>
- 相关领域:金属学及工艺理学一般工业技术电子电信更多>>
- 确定光学元件离子束均匀等速刻蚀最优延拓距离的方法
- 本发明涉及一种确定光学元件离子束均匀等速刻蚀最优延拓距离的方法,包括以下步骤:1)确定元件面形采样阵的采样间距和驻留时间面形的采样间距;2)等速均匀刻蚀;3)通过预测曲线确定驻留时间面形的最优延拓距离。设置边界因子,把不...
- 李晓静王大森张旭郭海林裴宁聂凤明
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- 传动轴挤压制备方法
- 一种传动轴挤压制备方法,其特征在于包括如下步骤:①下料,选用7075铝合金挤压棒材,下料规格根据实际要求进行等体积下料;②坯料机加工,进行车削外圆并车平两端面,棒料长度中心位置钻限位通孔,限位通孔中心过圆棒的几何中心;③...
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- 一种用于离子束抛光的可调节移动式球形夹具及其使用方法
- 本发明公开了一种用于离子束抛光的可调节移动式球形夹具及其使用方法,包括支撑板以及设置在支撑板上的电机组件、传动组件、升降组件以及抓取组件,通过本发明专利能够掌控球形构件的夹持力度,减少等离子加工时造成加工中断的情况出现,...
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- 一种射频离子源离子束束径约束器、束径控制装置及方法
- 本发明涉及一种射频离子源离子束束径约束器,其特征在于:所述束径约束器包括具有可供离子束穿过的中空结构的底座、多个叶片及驱动机构;所述多个叶片设于底座一端并环绕中空结构呈圆周排布,多个叶片的尾端伸入中空结构所在区域以围合形...
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- 一种小型椭球式等离子反应腔及其制造方法
- 一种小型椭球式等离子反应腔及其设计方法,包括腔体、设置在腔体内的沉积室以及同轴天线,腔体为下部切边的椭球状金属腔体,椭球状金属腔体的长轴直径Z=430~440mm,短轴半径R=160~170mm,沉积室是由沉积基台与石英...
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- 一种表征射频离子源离子束特性的测量方法
- 本发明涉及一种表征射频离子源离子束特性的测量方法,所述方法包括S1、真空腔室内固定硅片并将稳定后的离子束垂直投射于硅片上即α=0;S2、调整离子束引出端面与硅片之间的距离WD以调整形成于硅片上的束斑,并据此束斑分析离子束...
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- 带法兰凸缘轮辋挤扩成形方法
- 一种带法兰凸缘轮辋挤扩成形方法,其特征在于包括如下步骤:①下料工序;②加热工序,对经下料工序的棒料和挤压模具分别加热至开挤温度;③双向挤扩成形工序。与现有技术相比,本发明的优点在于:工序少,成套成形工装和设备投入,适合工...
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- 双面抛光机驱动结构
- 一种双面抛光机驱动结构,包括底座、上抛光盘、下抛光盘、第一驱动机构以及能容置待加工工件的工件盘,所述第一驱动机构设置于底座上,所述工件盘位于所述上抛光盘和下抛光盘之间,所述工件盘能在第一驱动机构的作用下来回运动;所述工件...
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- 制备光学金刚石膜的微波谐振腔设计及优化被引量:2
- 2019年
- 设计了两种具有不同结构的用于制备光学金刚石膜材料的新型微波谐振腔,第一种山字形剖面的重入式谐振腔,具有能提供足够大的微波谐振空间,激发出高密度等离子体的优点,对其改进后,沉积基台倒置,减少杂质,有助于提高膜的质量。在第二种谐振腔结构优化过程中发现,微波传输结构部分设计过渡锥台比直接连接时,沉积台上方可获得更强的电场强度,有利于提高沉积速率。对气体供给方式及流速进行了优化,提出了两种工作气体供给模式,模式I从中心孔进入,模式II从环状孔进入。结果表明:模式I有利形成均匀膜层,最佳气体流速范围为5~10 m/s。设计的微波谐振腔可应用于高品质光学金刚石膜的制备。
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- 关键词:微波谐振腔
- 一种用于大尺寸非球面光学元件研抛机床的在位检测方法
- 本发明涉及一种用于大尺寸非球面光学元件研抛机床的在位检测方法,包括:步骤1、获取待研抛元件的初始面形;步骤2、根据待研抛元件的初始面形生成加工代码;步骤3、对待研抛元件进行初定位:步骤4、使用第一传感器对初定位的待研抛元...
- 郭海林夏超翔张旭黄思玲王大森聂凤明李晓静裴宁