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唐红霖

作品数:2 被引量:7H指数:1
供职机构:中国科学院合肥智能机械研究所更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇氧化物
  • 1篇氧化物半导体
  • 1篇氧化锡
  • 1篇气敏
  • 1篇气敏器件
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体薄膜
  • 1篇半导体薄膜技...
  • 1篇SIO
  • 1篇SNO
  • 1篇O

机构

  • 2篇中国科学院

作者

  • 2篇张耀华
  • 2篇唐红霖
  • 1篇李民强
  • 1篇祁志美

传媒

  • 1篇郑州轻工业学...
  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇1995
  • 1篇1994
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
SnO_2-SiO_2双层薄膜氢敏元件的特性研究被引量:7
1994年
采用溶液-凝胶浸渍涂布工艺在Al_2O_3陶瓷管上制备了掺杂SnO_2气敏薄膜;利用高温热解法在SnO_2薄膜表面覆盖SiO_2气体分离膜后制得双层薄膜气敏元件。分别测试并比较单层和双层薄膜元件的气敏特性,结果表明:单层薄膜元件对可燃性气体无选择性、响应和恢复时间短;而双层薄膜元件对氢气表现出极高的灵敏度和优越的选择性,其响应和恢复时间都比单层薄膜元件有所延长,结合实验结果,从理论上阐述了双层薄膜元件对氢气的敏感机理。
祁志美张耀华李民强唐红霖
关键词:氧化物氧化锡气敏器件
一种制备γ-Fe_(2)O_(3)薄膜的新方法
1995年
采用一种简单的新工艺分别在硅片和氧化铝陶瓷基片上制备了γ-Fe_2O_3薄膜。该工艺分3步完成:首先利用Fe(NO_3)_3酒精溶液通过浸渍涂布工艺制备α-Fe_2O_3薄膜,其次α-Fe_2O_3薄膜在氢气流中、320~350℃之间热处理30min被还原为Fe_3O_4薄膜,最后Fe_3O_4薄膜在空气中250℃左右热处理30min被氧化为γ-Fe_2O_3薄膜。XRD和SEM分析结果表明该γ-Fe_2O_3薄膜呈尖晶石物相和自由取向,晶粒为针形,具有疏松多孔的微结构。
祁志美张耀华唐红霖
关键词:半导体薄膜技术氧化物半导体
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