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张小玲
作品数:
1
被引量:1
H指数:1
供职机构:
沈阳工业大学
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相关领域:
电子电信
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合作作者
孙承松
沈阳工业大学
温作晓
沈阳工业大学
李云鹏
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1998
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溅射条件对InSb薄膜方块电阻的影响
被引量:1
1998年
本文介绍了用射频溅射技术制备InSb薄膜的方法,探索了溅射电压,工作气压、衬底温度及基片电压等条件对膜的特性和结构的影响.着重讨论了溅射条件对膜方块电阻的影响,并初步得出其变化规律.
张小玲
孙承松
李云鹏
温作晓
关键词:
溅射
方块电阻
锑化铟
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