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孔庆峰

作品数：8 被引量：13H指数：2
供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金应用光学国家重点实验室开放基金吉林省科技发展计划基金更多>>
相关领域：电子电信电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 1篇电气工程

主题

  • 4篇光开关
  • 4篇MOEMS
  • 3篇电磁驱动
  • 3篇悬臂
  • 3篇亚胺
  • 3篇酰亚胺
  • 3篇聚酰亚胺
  • 2篇悬臂梁
  • 2篇透镜
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇单晶硅片
  • 1篇电磁
  • 1篇电铸
  • 1篇粘接
  • 1篇粘接剂
  • 1篇阵列器件
  • 1篇支撑体
  • 1篇湿法腐蚀
  • 1篇陶瓷

机构

  • 8篇中国科学院长...
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 8篇孔庆峰
  • 7篇梁静秋
  • 3篇李佳
  • 3篇侯凤杰
  • 3篇钟砚超
  • 2篇乐孜纯
  • 1篇金霞
  • 1篇孙德贵
  • 1篇梁中翥
  • 1篇王维彪
  • 1篇郭鹏

传媒

  • 1篇光机电信息
  • 1篇传感技术学报
  • 1篇光电子技术
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇第八届中国微...

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2007
  • 5篇2006
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
聚酰亚胺悬臂MOEMS电磁光开关的优化设计被引量：1
2006年
利用聚酰亚胺(PI)优良的机械、绝缘、耐热等性能,设计出基于PI膜的磁控光开关.给出合理的线圈宽度与间隙宽度,提出了八边形的线圈绕组结构,计算得出PI膜悬臂梁光开关驱动电压与工作距离的关系,并对悬臂梁长度、宽度、厚度进行优化.在驱动电压为2V时,自由端位移达到2mm.
孔庆峰梁静秋钟砚超侯凤杰李佳孙德贵
关键词：光开关电磁驱动悬臂梁聚酰亚胺
高精度长线列密排光纤阵列的制作研究被引量：7
2007年
本文讨论了利用硅V型槽法制作高精度线性光纤阵列的可行性,介绍了硅V型槽制作机理,对影响器件精度的主要因素进行了分析,并在器件设计、制作中给予充分考虑。根据器件的可靠性要求,分析了用于光纤粘接的粘接剂应满足的特性,并对紫外固化胶和红外粘接剂进行实验对比,结果表明,Norland紫外固化胶和353ND红外粘接剂为最佳选择。用各向异性湿法腐蚀技术制作了硅V型槽,进行了光纤排列、定位及端面处理,制作出了高精度线性光纤阵列。对端面面型误差和表面粗糙度的测试后,结果表明光纤阵列端面纵向位置误差≤324 nm,表面粗糙度均方根值小于3.85nm。
侯凤杰梁静秋郭鹏孔庆峰李佳
关键词：误差分析粘接剂
抛物面型高能X射线组合透镜
抛物面型高能X射线组合透镜，其特征在于包括：支撑体(1)、透镜主体(2)、空气腔(3)，在支撑体(1)的一个表面置有透镜主体(2)，透镜主体(2)由若干个双抛物面型透镜单元(4)顺序排列组成，透镜主体(2)的焦距尺寸大于...
梁静秋乐孜纯孔庆峰
文献传递
光通信中的新型光无源器件被引量：1
2009年
基于全光网络的迅猛发展,本文简单介绍了波分复用器、光开关、光插/分复用器件方面的新型光无源器件,对器件原理、功能进行了阐述。文章对这些实现技术的特点进行了详细的分析和比较,最后给出了结论和展望。
梁中翥钟砚超孔庆峰梁静秋
关键词：全光网络波分复用器光开关MOEMS
GaAs-LED阵列器件隔离沟槽的制备研究被引量：3
2006年
良好的电学和光学隔离能显著提高微LED阵列器件的亮度、分辨率等工作性能,高深宽比隔离沟槽的制备是决定电学隔离效果的关键。本文分析比较了各种制备工艺,选择湿法腐蚀工艺,使用了不同比例柠檬酸双氧水腐蚀液对G aA s进行了腐蚀,在二者配比为3∶1的条件下,在G aA s衬底材料上制备了深宽比为2∶1的隔离沟槽。腐蚀后芯片表面平整度、侧蚀等指标初步达到器件设计的要求。
李佳梁静秋金霞孔庆峰侯凤杰王维彪
关键词：GAAS湿法腐蚀
聚酰亚胺悬臂MOEMS电磁光开关研究
孔庆峰
关键词：光开关电磁驱动聚酰亚胺
聚酰亚胺悬臂MOEMS电磁光开关的优化设计
本文利用聚酰亚胺(PI)优良的机械、绝缘、耐热等性能,设计出基于PI膜的磁控光开关.给出合理的线圈宽度与间隙宽度,提出了八边形的线圈绕组结构,计算得出PI膜悬臂梁光开关驱动电压与工作距离的关系,并对悬臂梁长度、宽度、厚度...
孔庆峰梁静秋钟砚超侯凤杰李佳孙德贵
关键词：光开关电磁驱动悬臂梁聚酰亚胺
文献传递
一种X射线组合透镜及其制作工艺
本发明属于X射线微结构光学器件，尤其是X射线组合透镜及其制作工艺。本发明包括：支撑体，透镜主体和空气腔。首先在单晶硅片表面依次制作聚酰亚胺和金属薄膜，光刻、电铸，去胶，开窗口，完成X射线光刻掩膜制作；然后，在钛片表面制备...
梁静秋乐孜纯孔庆峰
文献传递
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