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邬融

作品数:26 被引量:82H指数:6
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金国家科技重大专项更多>>
相关领域:机械工程理学电子电信核科学技术更多>>

文献类型

  • 18篇期刊文章
  • 6篇专利
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 12篇机械工程
  • 11篇理学
  • 7篇电子电信
  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇核科学技术

主题

  • 15篇光学
  • 12篇衍射
  • 8篇衍射光学
  • 8篇激光
  • 7篇光束
  • 6篇衍射光学元件
  • 6篇光学元件
  • 5篇光束整形
  • 4篇高功率激光
  • 4篇高功率
  • 3篇相位
  • 3篇相位板
  • 3篇离子束
  • 3篇激光光学
  • 2篇迭代
  • 2篇衍射光栅
  • 2篇优化设计
  • 2篇远场
  • 2篇损伤阈值
  • 2篇频谱

机构

  • 20篇中国科学院上...
  • 8篇中国科学技术...
  • 7篇中国科学院大...
  • 6篇中国工程物理...
  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国科技大学

作者

  • 26篇邬融
  • 11篇周申蕾
  • 6篇邵平
  • 6篇李永平
  • 6篇赵东峰
  • 6篇张晓波
  • 5篇林尊琪
  • 5篇张军勇
  • 4篇华能
  • 3篇王利
  • 3篇朱健强
  • 3篇孙明营
  • 2篇戴亚平
  • 2篇蔡志坚
  • 2篇张巍
  • 2篇季来林
  • 2篇曹国威
  • 2篇李大为
  • 2篇刘强
  • 2篇李菁辉

传媒

  • 7篇中国激光
  • 5篇光学学报
  • 3篇物理学报
  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇光电工程

年份

  • 3篇2020
  • 1篇2019
  • 4篇2018
  • 1篇2016
  • 3篇2015
  • 2篇2013
  • 2篇2012
  • 3篇2011
  • 1篇2010
  • 3篇2008
  • 2篇2007
  • 1篇2006
26 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
离子束刻蚀工艺误差对DOE器件的影响被引量:5
2007年
针对衍射光学元件(DOE)的离子束刻蚀工艺,结合掩模套刻过程实例,本文提出了刻蚀误差面形分布的概念。在标量衍射的夫琅和费原理上,进行了误差数值模拟分析及讨论。模拟分析和实验数据结果表明,误差的面形分布在DOE器件的衍射焦斑中心会产生一个明显的光强畸变毛刺亮点,严重破坏了靶场照明的均匀性。
刘强张晓波邬融田杨超李永平
关键词:衍射光学元件离子束刻蚀
全频分段控制下连续相位板的优化设计被引量:3
2018年
为了提高聚焦光束质量,针对高功率激光驱动器的连续相位板(CPP)进行设计,改进了传统盖斯贝格-撒克斯通(G-S)算法的设计。设计基于分步分段控制相位板频谱的目标,约束初始相位的选取,保留带有目标焦斑低频信息的初始相位信息,在迭代过程中适当控制中高频信息。实验结果表明,相对于传统随机连续初始相位,改进后CPP作用下的焦斑顶部光强方均差误差(RMS)能更快地收敛到目标阈值。改进的初始相位不仅避免了G-S算法可能产生局部最优的问题,而且也能很好地应用于非对称焦斑的设计。
朱应成邬融张军勇周申蕾
关键词:光学器件光束质量
光谱色散和分布式相位板联用对靶面辐照均匀性的改善被引量:1
2011年
通过对分布式相位板和光谱色散匀滑技术联用的模拟计算,分析了联用实验中焦斑的变化,论证了非设计采样点光强的不可控性对焦斑匀滑质量的损害。模拟结果证实了光谱色散匀滑技术对色散方向上的焦斑均匀性的改善,焦斑不均匀性由58.30%降为19.50%。通过分析焦斑不均匀性与光谱色散匀滑积分时间的关系,发现5~6个光谱色散匀滑调制周期时得到最优匀滑效果。对焦斑频谱的分析显示,光谱色散匀滑技术可以有效抑制由非设计采样点光强引入的高频成分,26.3μm内的光强调制被平滑,同时很好地保持了由分布式相位板决定的焦斑低频包络,在实验与模拟中均得到很好验证。为进一步的分布式相位板与光谱色散匀滑技术联用设计提供了理论依据。
曹国威石鹏张晓波邬融周申蕾李永平
关键词:衍射
焦斑全频分段控制的连续相位板设计方法
本发明公开了一种焦斑全频分段控制的连续相位板设计方法,步骤为:(1)设定激光器波长、近场输入分布、成像焦距和远场目标分布;(2)确定连续相位板尺寸;(3)确定加工工艺限制,设计相应的滤波器;(4)根据步骤(1)设计连续相...
周申蕾朱应成张军勇邬融
在神光Ⅱ装置第九路系统开展351nm波长激光高通量传输的实验研究被引量:18
2011年
提出一种可实现351 nm波长激光高通量传输的终端光学组件(FOA)的物理设计方案,研究了设计优化方法,并利用神光Ⅱ装置第九路系统开展了实验研究。实验共进行了33发激光发射:激光光束净口径310 mm,时间脉冲宽度3 ns,1053 nm波长激光能量1000~4500 J。实验获得最高三次谐波转换效率69.6%和351 nm波长激光传输通量3.76 J/cm2,同时监测到高通量激光传输引起的动态环境污染物颗粒变化数和光学元件激光诱导损伤等现象。实验结果表明,通量密度约为3 J/cm2@351 nm的光学元件损伤主要是由激光传输散射鬼光束辐照材料所激发的污染物所致。
赵东峰王利林尊琪邵平季来林蔡志坚邬融戴亚平朱健强
关键词:激光器高功率激光装置激光诱导损伤
用于光束整形的衍射光学元件的设计和制作
结合光束整形相位器件的设计和制作实例,介绍最新提出的衍射光学元件(DOE:DiffractiveOptical Elements)设计方法和可行的制作工艺方案。经过对实际制作的16台阶器件的测试,验证了该种基于迭代框架中...
张巍张晓波舒方杰邬融李永平
关键词:衍射光学元件光束整形
文献传递
并行模拟退火算法优化衍射光学元件设计被引量:8
2010年
模拟退火(SA)是解决复杂非线性优化问题的好工具,开发其并行性也成为近些年的研究热点和方向。针对衍射光学元件(DOE)的束匀滑应用,结合消息传递接口(MPI)并行编程方法,开发并实现了具有良好收敛效果和并行效率的SA算法。在8个中央处理器(CPU)的小型并行计算平台上进行了入射口径310mm、出射20阶超高斯0.4mm×0.8mm聚焦光斑的优化设计,使用不到原来1/6的时间就能获得比原串行算法更好的匀滑效果,从而验证了该并行SA算法的快速有效性。
邬融赵东峰戴亚平
关键词:傅里叶光学模拟退火光束整形并行处理
焦斑全频分段控制的连续相位板设计方法
本发明公开了一种焦斑全频分段控制的连续相位板设计方法,步骤为:(1)设定激光器波长、近场输入分布、成像焦距和远场目标分布;(2)确定连续相位板尺寸;(3)确定加工工艺限制,设计相应的滤波器;(4)根据步骤(1)设计连续相...
周申蕾朱应成张军勇邬融
文献传递
基于局域信号增强的光学元件损伤检测被引量:3
2018年
为实现高功率激光驱动器中大口径光学元件表面疵病的低漏检率识别,针对微弱疵病的低信噪比特点,提出了改进的局部信号强度比自适应检测算法。利用信号图像中疵病与邻域非疵病区域的信号强度差异,构造了一类滤波模板对信号图像进行自适应局域增强,可有效提高疵病信号强度值和显著增强信号图像的疵病信噪比。对种子图像进行种子点的筛选与自适应区域生长,并进行精确提取完成损伤区域的完整分割。改进后的局部信号强度比算法能有效识别低信噪比微弱疵病,在全内反射暗场侧向照明成像条件下,可识别出约30μm的疵病坏点。与现有的局部信号强度比算法相比具有更低的漏检率,结果表明等价圆直径在50μm以上的损伤点的漏检率低于0.4%。
田玉婷邬融杨野
关键词:图像分割
透射衍射光栅内全反射级次被引量:6
2016年
当前高功率激光装置系统中,国内使用透射式衍射光栅进行光束采样,国外甚至使用光栅聚焦并同时结合谐波分离和采样功能.高功率激光辐照下,除了0级透射打靶光以及目标取样光外,其他级次衍射光的影响也不可忽视,可能造成诸如鬼像聚焦破坏、时间脉宽测量不稳定、近远场测量噪声等问题.尤其是透射衍射光栅内部全反射级次会导致光栅出射一系列规律的衍射花样,造成上述干扰和危害.首先理论上针对透射式光栅(包括取样光栅和聚焦光栅)进行了相应的计算和分析,然后从实验上观察并测量了取样光栅内部全反射级次的现象,并且结合镀减反膜前后的衍射现象进行了讨论,最后分析并给出了如何消除或规避全反射级次和其他冗余级次影响的方法.
邬融田玉婷赵东峰李大为华能邵平
关键词:衍射光栅全内反射
共3页<123>
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