江伟
- 作品数：17 被引量：27H指数：3
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- 相关领域：理学电子电信一般工业技术化学工程更多>>
- 磁控溅射低温沉积ITO薄膜及其光电特性研究被引量：2
- 2009年
- 采用直流反应磁控溅射法低温沉积ITO薄膜，用XRD、SEM和UV—Vis分别表征ITO薄膜的晶体结构、表面形貌及其紫外-可见光吸收谱，研究了氧分压、溅射功率及薄膜厚度等工艺参数对薄膜光电性能的影响，结果表明，氧分压过大时，ITO薄膜中有大量的位错和缺陷，使薄膜的电阻率变大，导电性变差；氧分压过小时，薄膜中将有大量氧空位产生，导致晶格变形，使电阻率增加。随着溅射功率增大，在相同时间内薄膜厚度增加，方块电阻减小，薄膜电阻率降低。随着薄膜厚度增加，制备的薄膜晶体结构相对完整，载流子浓度和迁移率逐渐增大，薄膜电阻率变小，进而对样品的光电性能产生明显影响。
- 江伟武光明王怡邢光建韩彬
- 关键词：直流磁控溅射ITO薄膜光响应
- Study of photocatalysis properties and Preparation of TiO2 thin films by Spray-Pyrolysis
- In this article was simply introduced the present research status of Ti02 thin film and also introduced the ph...
- 江伟武光明邢光建孙德鹏
- 关键词：PHOTOCATALYTIC
- 超声喷雾热分解制备ZnO薄膜及其光学性能的研究被引量：5
- 2009年
- 以醋酸锌水溶液为前驱体,采用超声喷雾热分解方法在普通玻璃衬底上沉积了ZnO薄膜,以X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和紫外-可见光分光光度计(UV-Vis)等手段对所得ZnO薄膜的晶体结构、微观形貌和光学性能进行了分析,着重考察了衬底温度、衬底与喷嘴之间的距离、生长时间对ZnO薄膜晶体结构和光学性能的影响。结果表明,衬底温度大于450℃,载气流量为4 L/min,衬底与喷嘴之间的距离为6 cm,生长时间为30 min下所得的ZnO薄膜较好,衍射峰较强,表面均匀致密,在可见光区域透过率为80%以上。
- 韩彬武光明邢光建王怡江伟
- 关键词：ZNO薄膜透过率
- 玻璃衬底上氮-铟共掺ZnO的制备及表征
- 2008年
- 以醋酸锌水溶液为前驱体,分别以醋酸铵和硝酸铟为氮(N)源和铟(In)源,采用超声喷雾热分解方法在普通玻璃衬底上沉积了氮-铟(N-In)共掺杂ZnO薄膜。并采用X射线衍射、场发射扫描电镜、霍尔效应、透射光谱等分析方法,研究了N,In共掺杂和沉积温度对ZnO薄膜的晶体结构、成分及含量、形貌、电学性能、光学性能的影响。结果表明:通过氮-铟共掺杂,ZnO基薄膜具有良好的的电学性能,但是均为n型导电,与相关文献中的结果完全相反。
- 韩彬武光明邢光建王怡江伟李东临
- 关键词：ZNO薄膜
- TiO_2/ZnO薄膜紫外探测器的光电特性被引量：8
- 2009年
- 采用射频磁控溅射的方法制备了TiO2/ZnO复合薄膜,用XRD、SEM和UV-Vis分别表征TiO2/ZnO薄膜的晶体结构、表面形貌及其紫外-可见光吸收谱。并用此材料制备了Au/TiO2/ZnO/Au结构MSM光电导型薄膜紫外光探测器,研究其光电特性。实验结果表明,TiO2/ZnO紫外探测器在5 V偏压360 nm紫外光照下光电流约为500μA,其响应度为100 A/W,平均暗电流约为0.5μA;由于TiO2/ZnO复合薄膜之间的费米能级不同而形成的内建电场作用,减少了产生的光生电子与空穴的复合,得到较强的光电流,且其光响应的上升弛豫时间约为22 s,下降响应时间约为80 s;响应时间较长是由于广泛分布于薄膜中的缺陷而造成的。结果表明TiO2/ZnO可作为一种良好的紫外探测材料。
- 王怡江伟邢光建武光明李东临
- 关键词：射频磁控溅射MSM紫外探测器光响应
- TiO2薄膜紫外探测器的光电特性
- 采用直流反应磁控溅射的方法制备TiO2薄膜,用XRD、SEM和UV-Vis分别表征TiO2薄膜的晶体结构、表面形貌及其紫外-可见光吸收谱。并用此材料制备MSM光电导型TiO2薄膜紫外光探测器,研究其光电特性。实验结果表明...
- 王怡江伟邢光建武光明李东临
- 关键词：磁控溅射紫外探测器光响应
- 文献传递
- 分子印迹吸附剂的制备及对中药重金属的吸附性能研究
- 20世纪90年代以来发生了多起“中药中重金属超标事件”，并被媒体报道，成为国际医药市场的敏感话题，严重损害了中药的形象，给我国造成极大的经济损失。中药重金属污染问题已引起人们普遍关注，对中药中重金属的净化成为研究的热点。...
- 江伟
- 关键词：吸附剂分子印迹技术壳聚糖硅藻土重金属
- 文献传递
- TiO/_2薄膜的制备及其紫外光导性能研究
- 本文主要采用直流反应磁控溅射的方法,在玻璃、石英及Si衬底上制备锐钛矿相TiO/_2薄膜,通过测量其晶体结构/(XRD/)、表面形貌/(SEM、SPM/)、表面成分/(XPS/)、薄膜厚度/(台阶仪/)以及透过率/(UV...
- 江伟
- 关键词：直流磁控溅射MSM紫外探测器光响应
- 文献传递网络资源链接
- Ni掺杂TiO2薄膜的甩胶喷雾热分解法制备和自清洁性能的研究被引量：2
- 2009年
- 以钛酸丁脂（Ti（C4H9O）4）为先驱体,硝酸镍（NiNO3）为掺杂物,采用甩胶喷雾热分解方法在玻璃衬底上制备出了镍掺杂TiO2自清洁薄膜,通过扫描电镜（SEM）、X射线衍射（XRD）、紫外-可见透射光谱（UV-Vis）、光催化和亲水性能测定等手段对样品进行分析,结果表明,500r/min为理想衬底转速,350℃是理想的衬底沉积温度,500℃是理想的样品退火温度。随着镍掺杂量的不断增加,TiO2薄膜的亲水性能也越好,当镍掺杂量达2%-3%时,TiO2薄膜的亲水性能达到最好。
- 朱江武光明卢凯韩彬邢光建江伟
- 关键词：掺杂TIO2薄膜自清洁
- 用甩胶喷雾热分解方法制备羧酸铕配合物光致发光薄膜的研究
- 2008年
- 配置羧酸铕配合物溶于二甲基亚砜中形成溶液,经TG确定甩胶喷雾热分解成膜温度为120℃,制备薄膜设备为自制,通过实验摸索各实验参数,成功制备了羧酸铕配合物光致发光薄膜。用320nm的紫外光照射,测量633nm激发红光强度发现速随膜厚增加激发光强接近粉体。SEM显示形成的薄膜并不理想,但不影响发光。650℃对样品退火,没有红色激发光谱。
- 武光明王怡靳力韩彬邢光建江伟
- 关键词：光致发光
