张铭杨
- 作品数：5 被引量：21H指数：3
- 供职机构：济南大学物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金：山东省自然科学基金博士科研启动基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学自动化与计算机技术更多>>
- 氧压对用PLD法制备的ZnO薄膜的特性影响
- 2009年
- 通过脉冲激光沉积方法在不同的氧压中制备ZnO薄膜。用X射线衍射(XRD)谱、原子力显微镜(AFM)及光学透过率谱表征了薄膜的结构和光学特性。XRD谱和AFM显示在生长压力为2Pa时获得了较好的结晶薄膜,随着氧压的提升薄膜表面平整,晶粒均匀。光学透过率谱显示在生长压力为5Pa时有较好的光学特性。
- 魏显起张铭杨满宝元
- 关键词：PLDZNO薄膜晶体结构表面形貌光学特性
- 基于霍尔效应的杨氏模量测量实验改进被引量：6
- 2013年
- 研究一种全新的方式来测量伸长量,通过基尔霍夫效应测量,配合单片机自动处理系统跟LDA显示读书装置来获取.利用霍尔传感器对磁场变化而产生的电压变化信号,然后通过AD转换器和51单片机对信号处理,利用1602液晶显示屏精确地读出数据,改进的实验提高了测量精确度.
- 张铭杨邵明辉王德利魏显起
- PLD法制备ZnO薄膜的退火特性和蓝光机制研究被引量：10
- 2009年
- 通过脉冲激光沉积(PLD)方法,在O2中和100～500℃衬底温度下,用粉末靶在Si(111)衬底上制备了ZnO薄膜,在300℃温度下生长的薄膜在400～800℃温度和N2氛围中进行了退火处理,用X射线衍射(XRD)谱、原子力显微镜(AFM)和光致发光(PL)谱表征薄膜的结构和光学特性。XRD谱显示,在生长温度300℃时获得较好的复晶薄膜,在退火温度700℃时获得最好的六方结构的结晶薄膜;AFM显示,在此退火条件下,薄膜表面平整、晶粒均匀;PL谱结果显示,在700℃退火时有最好的光学特性。
- 魏显起张铭杨满宝元
- 关键词：ZNO薄膜表面形貌
- 氧化锌薄膜的光电特性研究进展被引量：5
- 2009年
- 由于氧化锌特殊的结构及在光电等方面的广泛应用,关于氧化锌的光电方面的研究引起了人们极大的兴趣.综述了氧化锌薄膜在短波激光、透过率、电子特性方面的研究进展,对今后的研究方向进行了展望.
- 张铭杨李世帅
- 关键词：氧化锌薄膜光电特性
- 基于高亮度及倒装芯片结构LED配光研究
- 2019年
- 利用TracePro软件对高亮度及倒装芯片结构的LED光分布进行研究.从芯片构建和一次封装两方面运用Tracepro软件进行出光设计模拟,得出芯片的光分布和出光效率.通过软件模拟证明其实际应用的可行性.
- 张铭杨魏显起王之辉
- 关键词：大功率LED倒装结构封装配光
