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文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇磷化镓
  • 3篇GAP
  • 1篇氮化镓
  • 1篇杂质能级
  • 1篇溶解度
  • 1篇镍掺杂
  • 1篇穆斯堡尔
  • 1篇穆斯堡尔谱
  • 1篇NI
  • 1篇DLTS
  • 1篇EPR谱
  • 1篇FE
  • 1篇GAN
  • 1篇掺杂
  • 1篇P
  • 1篇SSBAUE...

机构

  • 2篇北京师范大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 3篇李智
  • 3篇杨锡震
  • 1篇曾贻伟
  • 1篇吴小山
  • 1篇田强
  • 1篇陈晓白

传媒

  • 2篇发光学报
  • 1篇科学通报

年份

  • 2篇1996
  • 1篇1994
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
N在GaP及P在GaN中的溶解极限的计算被引量:1
1994年
本文根据化学反应的吉布斯自由能及VanVechten等人的介电理论计算了N在GaP中的溶解度及P在GaN中的溶解度.计算结果表明,N在GaP中有一个相当好的溶解度,在这个溶解度下,GaP(1-x)Nx合金的能带可以发生有意义的变化,我们的计算结果可以很好地说明最近一些作者所作的有关实验报道.
吴小山杨锡震林振金李智
关键词:溶解度磷化镓氮化镓
Ni^+注入n—GaP DLTS谱中Ni杂质能级的识别
1996年
在不同条件下退火的Ni+注入n-GaPDLTS谱中观测到表观激活能在0.60~0.70eV范围内的多个多子峰和少子峰.对各样品掺杂层内的能带弯曲及Ni杂质各荷电状态浓度空间分布在DLTS测量的零偏-反偏过程中的变化进行了计算.结合分析实测各能级热发射率数据,对其中起源于NiGa中心的DLTS峰作出了判断.
杨锡震陈晓白李智田强
关键词:磷化镓DLTS镍掺杂
GaP:Fe的M(?)ssbauer效应和EPR谱研究被引量:2
1996年
众所周知,GaP为宽禁带间接型半导体,是制作绿色发光二极管的主要材料之一;但在生长GaP单晶过程中很难避免杂质Fe的存在,这就使得用GaP制成的发光器件的效率难以提高。显然研究Fe在GaP中的行为,进而了解其对以GaP为基础制成的发光器件发光效率影响的机制,无疑在应用上有重要的意义。近年来对Fe及其它过渡元素在半导体中行为的研究,无论从实验或理论方面均取得重要进展;如Fe杂质在GaP中取代Ga晶位,处于由4个近邻P原子形成的正四面体中心,具有四方对称性旧,通过EPR(电子顺磁共振)谱和其它实验证实了Fe在GaP中的电荷态分别为3d^5,3d^7和3d^6。我们应用M(?)ssbauer谱和EPR谱方法,研究Fe注入GaP后,在GaP中的行为和相应的物理机制;观测了不同退火条件下注入样品表面杂质Fe超精细相互作用参数的变化,并与Fe扩散入GaP的情况相对比,取得一些有趣的结果。
曾贻伟杨锡震李智林振全邱菊
关键词:EPR谱磷化镓穆斯堡尔谱
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