赵琳
- 作品数：107 被引量：100H指数：5
- 供职机构：中国电子科技集团第十三研究所更多>>
- 发文基金：天津市自然科学基金上海市自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：机械工程自动化与计算机技术电子电信一般工业技术更多>>
- 光电导开关中的隧穿现象
- 2008年
- 采用光刻和大气环境下原子力显微镜(AFM)阳极诱导氧化加工相结合的加工方法,加工由Ti-TiOx-Ti纳米级隧道结构成其基本结构的微型光电导开关(PCSS),并对其电特性进行了研究和分析。研究结果表明在大气室温条件下,微型PC-SS的输出特性随氧化物宽度不同而不同,当宽度小于100nm时,其输出特性表现为在一个线性峰值的输出过后,又出现了一个非线性的峰值;在一定条件下Ti-TiOx-Ti纳米级隧道结存在隧穿效应,且其隧穿特性随绝缘金属氧化物的宽度不同而不同。
- 刘庆纲高霞赵琳江宁川胡小唐
- 关键词：隧道结
- 标准样板定值方法、装置、终端设备及标准样板
- 本申请适用于微电子计量技术领域，提供了一种标准样板定值方法、装置、终端设备及标准样板。该方法包括：获取制备得到的标准样板的特征图像；其中，标准样板为刻蚀有多个镂空柱状结构的晶圆，特征图像包括镂空柱状结构对应的底面图像；在...
- 张晓东赵琳韩志国李锁印徐森锋许晓青张家欢吴爱华
- 基于线距标准样片的扫描电镜校准方法探讨被引量：2
- 2021年
- 为解决微电子行业内扫描电镜的计量需求,结合现有扫描电镜的计量技术文件,研究了基于线距标准样片的扫描电镜校准方法。首先,采用半导体工艺研制了用于计量扫描电镜的线距标准样片,并对样片进行了质量参数考核。其次,分析了现有检定规程的局限性,并研究了扫描电镜放大倍数示值误差、重复性、图像线性失真度等参数的实际校准方法。最后,使用自行研制且经过溯源的线距标准样片对扫描电镜在100K倍下的示值误差进行了校准实验,结果表明:自行研制样片的指标可以达到校准电镜的要求,被校电镜的示值误差在2%的范围以内,校准方法有效。
- 赵琳张晓东李锁印韩志国吴爱华
- 关键词：扫描电镜半导体工艺校准方法
- 超薄二氧化硅薄膜样片的定值方法及制备方法
- 本发明适用于半导体技术领域，提供了一种超薄二氧化硅薄膜样片的定值方法及制备方法。该定值方法包括：将衬底在清洗液中清洗；在清洗后的所述衬底的上表面生长厚度小于10纳米的二氧化硅薄膜；选取定值区域，在所述定值区域选取n个测量...
- 韩志国梁法国李锁印赵琳冯亚南许晓青
- 文献传递
- 纳米级线宽标准样片的设计与制备被引量：4
- 2021年
- 介绍了纳米级线宽标准样片的用途及其在校准扫描电子显微镜中存在的问题,设计了具有快速循迹结构的线宽标准样片,采用电子束光刻工艺制作了标称宽度为25nm~200nm的线宽样片。以50nm和200nm线宽为例对样片的线宽偏差、线边缘粗糙度、线宽均匀性和稳定性进行了考核。结果表明,标称值50nm~200nm的样片线宽值与设计值基本一致,线边缘粗糙度为1.9nm~2.0nm、均匀性为1.7nm~1.9nm,稳定性为0.06nm~0.6nm。
- 韩志国李锁印冯亚南赵琳吴爱华
- 关键词：电子束线边缘粗糙度均匀性稳定性
- 基于二氧化硅的微米级线距样片制备被引量：2
- 2018年
- 设计了微米级线距样片的图形结构和制作工艺流程,制作了周期尺寸为(1～10)μm的线距样片。以周期尺寸为1μm和10μm的样片为例对样片的直线度、均匀性和稳定性等质量参数进行了考核。结果表明,研制的线距样片尺寸与设计值基本一致,稳定性好,与美国VLSI公司的标准样片进行了结果对比,本文研制的线距样片与VLSI的标准样片质量相当。
- 赵琳李锁印冯亚南韩志国许晓青梁法国
- 关键词：直线度均匀性稳定性
- 控释制剂用高速激光打孔机
- 2007年
- 介绍一种用于渗透泵控释片剂工业化生产的高速激光打孔机。该打孔机在计算机控制下步进式工作,打孔质量高,运行可靠,打孔速度最高可达每秒10片。同时利用动态视觉传感器对药片实时扫描,保证了不合格药片的完全剔除。该机设计合理,自动化程度高,适合工业化生产中对渗透泵控释片剂进行高速打孔。
- 赵琳王宝光刘力双梁洪峰
- 关键词：激光打孔渗透泵控释制剂动态检测
- 纳米尺寸的线距标准样片及其制备方法
- 本发明涉及半导体技术领域，具体公开一种纳米尺寸的线距标准样片，包括基板和设置于所述基板上的光栅图形区，还包括位于所述光栅图形区外的三级光栅循迹标志，通过三级循迹标志可以快速准确找到光栅有效区域，解决现有标准样片无法快速找...
- 赵琳徐森锋梁法国李锁印韩志国许晓青冯亚南张晓东吴爱华
- 文献传递
- AFM探针测量方法、装置、控制设备及存储介质
- 本发明提供一种AFM探针测量方法、装置、控制设备及存储介质。该方法包括：利用AFM探针扫描待测线条，得到待测线条的待测曲线；以待测曲线的顶点为中心，确定待测线条的左侧待测曲线和右侧待测曲线；以AFM的横向分辨率为步进，分...
- 韩志国李锁印邹学峰张晓东赵琳吴爱华许晓青
- 文献传递
- 基于多层膜沉积的寻迹式线宽标准样片及其制备方法
- 本发明适用于微纳米测量仪器计量技术领域，提供了一种基于多层膜沉积的寻迹式线宽标准样片及其制备方法，该寻迹式线宽标准样片包括：依次设置的第一衬底样片、多层介质层和第二衬底样片；第一衬底样片的第一面上设置多个第一凹槽，每个第...
- 赵琳李锁印梁法国邹学锋韩志国张晓东冯亚南许晓青吴爱华
- 文献传递
