石蕊
- 作品数：4 被引量：12H指数：3
- 供职机构：清华大学信息科学技术学院计算机科学与技术系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金清华大学校科研和教改项目更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 光学邻近效应矫正(OPC)技术及其应用被引量：3
- 2007年
- 随着集成电路设计和制造进入超深亚微米(VDSM)阶段,特征尺寸已经接近甚至小于光刻工艺中所使用的光波波长,因此光刻过程中,由于光的衍射和干涉现象,实际硅片上得到的光刻图形与掩膜版图形之间存在一定的变形和偏差,光刻中的这种误差直接影响电路性能和生产成品率.为尽量消除这种误差,一种有效的方法是光学邻近效应矫正(OPC)方法.目前由于OPC矫正处理时间过长,产生的文件大小呈指数级增长,使掩膜版的制造成本成倍地增加.文中首先针对OPC矫正技术进行了深入研究,提出了具有图形分类预处理功能的自适应OPC矫正技术,将芯片图形按其对性能的影响分为关键图形与一般图形,对两类图形采用不同的容差,提高了OPC处理效率.其次,提出并实现了图形分段分类的基于模型的OPC矫正算法,在保证矫正精度的同时提高了矫正的效率.提出了具有通用性、简洁性和全面性的OPC矫正规则,在此基础上实现了规则库的自动建立和规则库的查找与应用,实现了效率高、扩展性强的基于规则的掩膜版矫正算法.算法对规则数据进行有效地描述、存储和处理,提高了光刻矫正技术实际应用效率.第三,设计实现了高效、高精度的光学邻近效应矫正系统MR-OPC,系统综合应用了基于规则的OPC矫正技术和基于模型的OPC矫正技术,很好地解决了矫正精度和矫正效率之间的矛盾,取得了最佳的矫正优化结果.
- 蔡懿慈周强洪先龙石蕊王旸
- 关键词：版图集成电路
- 基于规则的光学邻近矫正中规则的相关处理(英文)被引量：3
- 2002年
- 讨论了如何选择适当的规则 ,如何建立简洁实用的规则库 ,如何应用规则库 .提出了四种主要的光学邻近矫正规则 ,在实验结果中列举了规则库中的部分数据 .利用规则矫正后的版图光刻得到的硅片图形有了明显的改善 .规则库的自动建立部分 (OPCL)是基于规则的光学邻近矫正系统的重要组成部分 .
- 石蕊蔡懿慈洪先龙吴为民杨长旗
- 关键词：光刻规则库半导体
- 对象模型在集成电路掩膜光学临近矫正中的应用被引量：2
- 2003年
- 随着超大规模集成电路的发展 ,其特征尺寸已经接近或小于掩膜光刻工艺中所使用的光波长 由于光的衍射和干涉现象 ,实际得到的光刻图形与掩膜图形之间存在一定的误差 为尽量消除这种误差 ,常用的两种方法是OPC和PSM 提出一种基于对象模型的OPC方法以及由此而开发的可实际应用的工具软件OPCM 该方法也为基于规则的OPC提供了产生基本规则的引擎 。
- 杨长旗洪先龙吴为民蔡懿慈石蕊
- 关键词：对象模型集成电路
- 成品率驱动下基于模型的掩模版优化算法被引量：5
- 2004年
- 提出并实现了以分段分类思想为基础的掩模版优化算法 ,它是一种基于模型的光学邻近效应方法 .该算法具有矫正精度高、灵活性强和矫正效率较高的特点 ,适合于版图中关键图形的矫正 .实验表明 ,该优化算法可以实现矫正功能并且具有很好的矫正效果 .
- 王旸蔡懿慈石蕊洪先龙
- 关键词：掩模光刻
