朱怡峥
- 作品数：3 被引量：19H指数：2
- 供职机构：清华大学信息科学技术学院电子工程系更多>>
- 相关领域：电子电信理学一般工业技术更多>>
- 二次离子质谱的深度分辨本领被引量：6
- 2000年
- 深度剖析是二次离子质谱在半导体以及各种其它薄膜材料分析中最重要的应用 ,深度分辨本领是表征其分析能力的重要参数 ,国际标准化组织 ( ISO)最近正在研究和制定这方面的国际标准。本文在概述了SIMS深度分辨本领影响因素的基础上 ,推导了δ掺杂层深度分辨函数的解析表达式 ,讨论了其物理意义 ,特别是分辨参数的定义。在 CAMECA IMS4 f仪器上用 5.5ke V的氧束对 Si中 Ga Asδ掺杂多层膜样品进行了深度剖析 ,讨论了所得分辨参数及影响因素。结合国外实验室 ISO巡回测试的结果 。
- 朱怡峥桂东陈娉马农农韩象明查良镇
- 关键词：二次离子质谱半导体
- 二次离子质谱学的新进展被引量：14
- 2001年
- 简要回顾了二次离子质谱学的形成和发展 ,从原始概念出发概括分析了学科的特点 ,据此评述了其领域的拓宽和现状。结合近 5年来国内外的最新进展 ,以微电子学和光电子学为重点 ,兼顾生物和医学、地质和天体学科、纳米科技和环境监测等领域 ,讨论了其前沿在世纪之交对SIMS提出的挑战 ,介绍了定量分析和仪器的发展现状。有重点地结合一些实例 。
- 查良镇桂东朱怡峥
- 关键词：微电子学光电子学质谱仪器质谱分析
- SIMS定量分析中RSF重复性和深度分辨本领的研究
- 该论文以重要的半导体材料Si和GaAs为主要的研究对象,围绕提高SIMS定量分析精度进行了应用和基础研究.
- 朱怡峥
- 关键词：二次离子质谱
- 文献传递
