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国家自然科学基金(60376020)

作品数：4 被引量：10H指数：2
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地区

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共 12 条 记 录，以下是 1-10
刘明
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈宝钦
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李泠
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 晶体管 电极 介质层 沟道
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
龙世兵
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 电极 浮栅 非挥发性 电子束直写
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陆晶
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：分辨率 移相掩模技术 移相掩模 光刻 交替式
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢常青
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 X射线光刻 敏感膜 存储器 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
范东升
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：纳米压印 纳米压印光刻 T型栅 压印 微细加工
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王云翔
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：移相掩模技术 移相掩模 分辨率 光刻 交替式
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张立辉
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束直写 单电子晶体管 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康晓辉
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：波带片 纳米压印 高分辨率 电子束 数据研究
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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