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国家重点基础研究发展计划(G2000036504)
作品数:
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任黎明
陈宝钦
谭震宇
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薛丽君
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任黎明
供职机构:北京大学
研究主题:石墨烯 金属 纳电子学 电子束曝光 光刻胶
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陈宝钦
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 电子束曝光 电子束直写 抗蚀剂 电子束
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谭震宇
供职机构:山东大学电气工程学院
研究主题:低能电子 蒙特卡罗法 MONTE 散射 CARLO方法
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汤跃科
供职机构:中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题:数据格式转换 微光刻技术 电子束直写 CIF格式 光学
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薛丽君
供职机构:中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题:电子束直写 ALGAN/GAN_HEMT 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
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陆晶
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束直写 电子束光刻 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
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李金儒
供职机构:中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题:数据格式转换 CIF格式 电子束直写 微光刻技术 CIF
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王德强
供职机构:中国工程物理研究院激光聚变研究中心
研究主题:X射线光刻 波带片 X射线 电子束 电子束直写
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刘珠明
供职机构:中国科学院电工研究所
研究主题:热反射 电子束曝光机 热光伏电池 光学 微光刻技术
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研究领域
胡勇
供职机构:中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题:微光刻技术 光学 电子束直写 电子束曝光系统 数据处理
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