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国家自然科学基金(50277003)

作品数：4 被引量：11H指数：2
相关作者：齐雪莲任春生马腾才张健王友年更多>>
相关机构：大连理工大学更多>>
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相关领域：理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 3篇非平衡磁控溅...
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇等离子体
  • 2篇CU膜
  • 1篇等离子体参数
  • 1篇射频
  • 1篇光谱
  • 1篇和光
  • 1篇发射光谱
  • 1篇感应耦合
  • 1篇感应耦合等离...
  • 1篇高密度等离子...
  • 1篇LANGMU...

机构

  • 4篇大连理工大学

作者

  • 4篇任春生
  • 4篇齐雪莲
  • 3篇马腾才
  • 2篇张健
  • 1篇麻冰欣
  • 1篇王友年
  • 1篇刘峰

传媒

  • 2篇核聚变与等离...
  • 1篇真空
  • 1篇大连理工大学...

年份

  • 2篇2007
  • 2篇2006
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
高密度等离子体增强非平衡磁控溅射沉积Cu膜研究被引量：2
2006年
采用直流非平衡磁控溅射射频等离子体增强电高法在Si衬底上沉积了Cu膜，用扫描电镜（SEM）研究了沉积Cu膜的表面形貌并测得薄膜的厚度，用X射线衍射（XRD）研究了沉积Cu膜的结构，用电子能谱等对Cu膜进行了成分分析．实验结果表明，在该条件下沉积的Cu膜致密，晶粒尺度在100～1000nm，膜基界面比较紧密，没有明显的空洞，并且Cu膜呈（111）织构．通过实验，找到沉积Cu膜的最佳实验参数，并希望这一工艺能应用在集成电路中．
齐雪莲任春生马腾才刘峰
关键词：非平衡磁控溅射CU膜
射频感应等离子体的Langmiur探针和光谱诊断被引量：5
2007年
用Langmuir探针对射频（13．56Mnz）感应等离子体进行了诊断，给出了Ar等离子体轴向和径向参数随气压的变化。采用发射光谱测量了等离子体中氩原子的750．3nm谱线强度随气压在轴向的变化，其变化趋势与Langmuir探针测量结果的变化趋势相一致。测量了氩离子的434．8nm谱线强度随气压在轴向的变化并获得了氩离子的434．8nm谱线强度与氩原子的430．0nm谱线强度的比值在轴向三个不同位置的变化。从测得的结果可知：在放电室中上部形成了均匀稳定的高密度等离子体，在靶附近有所降低，在中部以下等离子体密度逐渐变低；在径向6-7cm以内的区域等离子体参数变化不大，形成了均匀稳定的等离子体，等离子体参数在器壁处变化明显。
张健任春生齐雪莲王友年
关键词：LANGMUIR探针发射光谱感应耦合等离子体等离子体参数
射频等离子体增强非平衡磁控溅射沉积技术被引量：2
2006年
介绍了射频电感耦合等离子体增强非平衡磁控溅射沉积技术的原理、实验性能。并用该技术在Si基片上沉积了Cu膜，研究了所成膜的结构、表面形貌及膜成分等，分析结果表明在该条件下沉积的Cu膜致密，晶粒尺度大约在100～1000nm，膜基界面比较紧密，没有明显的空洞，并且膜呈（111）织构。最后简要介绍了该技术应用的前景。
齐雪莲任春生马腾才
关键词：非平衡磁控溅射
射频对非平衡磁控溅射沉积Cu膜的影响被引量：2
2007年
用射频等离子体增强非平衡磁控溅射在Si100基底上沉积了金属Cu膜。研究了偏压,射频功率和磁场等沉积参数对膜性能的影响。用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)和电子能谱(EM)检测了膜的表面形貌,结构和成分。结果表明,射频放电有利于表面均匀光滑、电导率高的Cu沉积膜的形成;沉积参数对沉积膜的性能有重要的影响。
齐雪莲任春生张健麻冰欣马腾才
关键词：射频非平衡磁控溅射CU膜
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