您的位置： 专家智库 > >

天津市科技计划(08JCYBJC14600)

作品数：1 被引量：2H指数：1
相关作者：王莎莎孙大智吴小国张楷亮王芳更多>>
相关机构：天津理工大学更多>>
发文基金：天津市科技计划天津市高等学校科技发展基金计划项目国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇电感耦合
  • 1篇电感耦合等离...
  • 1篇离子
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇金刚石膜
  • 1篇功率
  • 1篇功率优化
  • 1篇ICP

机构

  • 1篇天津理工大学

作者

  • 1篇王芳
  • 1篇张楷亮
  • 1篇吴小国
  • 1篇孙大智
  • 1篇王莎莎

传媒

  • 1篇光电子．激光

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
全选 清除 导出
排序方式：
基于电感耦合氧等离子体金刚石膜表面修饰的功率优化被引量：2
2011年
采用电感耦合等离子体(ICP)氧等离子体刻蚀金刚石膜,探寻金刚石膜表面处理的方法。通过分析不同ICP射频源功率和不同偏压源功率下的刻蚀速率,研究了金刚石膜刻蚀的机理作用;通过拉曼光谱进行表征,分析刻蚀前后sp2与sp3的含量。结果表明,在ICP氧等离子体刻蚀的过程中,sp3键部分转化为sp2键;刻蚀后表面粗糙度降低;当刻蚀功率较高时,可同时刻蚀sp2和sp3键,而且刻蚀sp2的速率强于sp3。在刻蚀实验及机理探索基础上优化了刻蚀功率。
张楷亮王莎莎王芳吴小国孙大智
关键词：金刚石薄膜
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0