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王仲杰

作品数:7 被引量:22H指数:4
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院更多>>
发文基金:河北省自然科学基金天津市自然科学基金国家中长期科技发展规划重大专项更多>>
相关领域:电子电信更多>>

领域

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主题

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机构

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资助

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传媒

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地区

  • 8个天津市
  • 3个河北省
11 条 记 录,以下是 1-10
王辰伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵亚东
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 化学机械抛光 碱性抛光液 抛光速率 掩膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
栾晓东
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:化学机械抛光 CMP 去除速率 碱性 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郑环
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 阻挡层 化学机械抛光 RU 非离子
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张乐
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 化学机械抛光 H2O2 阻挡层 RU
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周建伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 化学机械抛光 硅溶胶 抛光液 硅晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫辰奇
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛新环
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王胜利
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 化学机械抛光 抛光液 螯合剂 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共2页<12>
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