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李晖

作品数：6 被引量：13H指数：3
供职机构：河北工业大学更多>>
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合作作者

领域

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机构

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资助

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传媒

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地区

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  • 1个新疆
  • 1个河北省
共 10 条 记 录，以下是 1-10
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘海晓
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 去除速率 速率 化学机械平坦化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘效岩
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王娟
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 硅溶胶 抛光液 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡轶
供职机构：新疆师范大学化学化工学院
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 碱性抛光液 抛光速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
梁艳
供职机构：河北化工医药职业技术学院
研究主题：PH值 碱性 化学机械抛光 纳米SIO 溶胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周建伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 硅溶胶 抛光液 硅晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛新环
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
檀柏梅
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 ULSI 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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