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黄巍
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11
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H指数:2
供职机构:
中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
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国家自然科学基金
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金属学及工艺
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一般工业技术
电子电信
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合作作者
邹世昌
中国科学院上海冶金研究所上海微...
郑志宏
中国科学院上海冶金研究所上海微...
柳襄怀
中国科学院上海冶金研究所上海微...
王曦
中国科学院上海冶金研究所上海微...
杨根庆
中国科学院上海冶金研究所上海微...
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邹世昌
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题:离子注入 离子束 硅 SOI 巨磁电阻
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郑志宏
供职机构:中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题:离子束 离子束增强沉积 血液相容性 氮化钛 离子注入
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柳襄怀
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题:离子束 离子束增强沉积 离子束辅助沉积 离子注入 电子发射
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王曦
供职机构:清华大学
研究主题:衬底 离子注入 SOI 硅 绝缘体
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杨根庆
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题:离子束 离子注入 小卫星 单粒子瞬态脉冲 硅
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周祖尧
供职机构:中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题:离子注入 硅 离子束 离子束增强沉积 P
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周建坤
供职机构:中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
研究主题:离子束 计算机模拟 氮化钛薄膜 氮化钛 氮化硅薄膜
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林梓鑫
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题:离子注入 SOI 低剂量 硅 SIMOX
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李金华
供职机构:常州大学
研究主题:离子束增强沉积 溶胶-凝胶法 二氧化钒薄膜 SIMOX 氧化钒薄膜
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林成鲁
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题:离子注入 SOI 硅 SIMOX 铁电薄膜
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