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王炜

作品数：40 被引量：108H指数：7
供职机构：中国科学技术大学更多>>
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共 33 条 记 录，以下是 1-10
李永平
供职机构：中国科学院
研究主题：衍射光学元件 电子结构 均匀照明 ICF 光束整形
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐俊中
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：衍射光学元件 均匀照明 离子束 ICF 离子束刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈超
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：磁铁 2型糖尿病 2型糖尿病患者 磁轭 励磁线圈
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李涛
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：ICF 衍射光学元件 均匀照明 大尺寸 PPE
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵逸琼
供职机构：中国科学技术大学物理学院物理系
研究主题：衍射光学元件 均匀照明 离子束 离子束刻蚀 衍射光学
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
傅绍军
供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室
研究主题：离子束刻蚀 软X射线 全息光刻 衍射光栅 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈德伟
供职机构：中国科学技术大学物理学院物理系
研究主题：ICF 惯性约束核聚变 耦合波 光束 闪耀光栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
洪义麟
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：离子束刻蚀 光栅 全息光刻 衍射光栅 软X射线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
裴珉
供职机构：中国科学技术大学物理学院物理系
研究主题：衍射光学元件 衍射 光学元件 特性分析 ICF
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
付绍军
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射效率 刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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