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王德强

作品数：16 被引量：27H指数：4
供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
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谢常青
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 X射线光刻 敏感膜 存储器 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
叶甜春
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：X射线光刻 沟道 半导体器件 版图 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张立辉
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：单电子晶体管 电子束直写 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘明
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汤跃科
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：数据格式转换 微光刻技术 电子束直写 CIF格式 光学
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
范东升
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：纳米压印 纳米压印光刻 T型栅 压印 微细加工
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陆晶
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束直写 电子束光刻 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛丽君
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：电子束直写 ALGAN/GAN_HEMT 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
任黎明
供职机构：北京大学
研究主题：石墨烯 金属 纳电子学 电子束曝光 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李金儒
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：数据格式转换 CIF格式 电子束直写 微光刻技术 CIF
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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