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刘春香

作品数：16 被引量：34H指数：4
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
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合作作者

领域

  • 17个电子电信
  • 4个机械工程
  • 4个电气工程
  • 4个一般工业技术
  • 2个化学工程
  • 2个金属学及工艺
  • 1个自动化与计算...
  • 1个理学

主题

  • 15个单晶
  • 15个锗
  • 14个单晶片
  • 14个晶片
  • 12个抛光
  • 12个粗糙度
  • 11个化学机械抛光
  • 11个机械抛光
  • 10个抛光片
  • 10个硅单晶
  • 9个清洗技术
  • 9个硅片
  • 8个电池
  • 8个太阳电池
  • 8个磷化铟
  • 8个面粗糙度
  • 6个电子能
  • 6个电子能谱
  • 6个多结太阳电池
  • 6个损伤层

机构

  • 17个中国电子科技...
  • 2个中国电子科技...
  • 1个天津大学
  • 1个中电集团
  • 1个信息产业部

资助

  • 4个国家科技部专...
  • 2个国家高技术研...
  • 2个国家自然科学...
  • 2个国家部委资助...
  • 1个国防基础科研...

传媒

  • 14个电子工业专用...
  • 13个半导体技术
  • 7个电子工艺技术
  • 5个微纳电子技术
  • 4个天津科技
  • 3个节能技术
  • 3个中国电子科学...
  • 2个材料导报
  • 2个城市建设理论...
  • 1个合肥工业大学...
  • 1个电源技术
  • 1个工业计量
  • 1个压电与声光
  • 1个电子元件与材...
  • 1个中国新技术新...
  • 1个第十四届全国...

地区

  • 15个天津市
  • 2个北京市
共 17 条 记 录，以下是 1-10
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 锗 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吕菲
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 抛光片 化学腐蚀 单晶片 锗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林健
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：单晶片 砷化镓 表面粗糙度 磷化铟 超薄
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王云彪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 表面粗糙度 超薄 磷化铟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
于妍
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 化学腐蚀 碱性腐蚀 单晶片 硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
武永超
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：超薄 化学机械抛光 半导体行业 激光技术 激光打标
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵秀玲
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 光洁度 化学腐蚀 单晶片 锗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
佟丽英
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 抛光片 电阻率 硅单晶 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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