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吕树玲

作品数：11 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>

合作作者

领域

  • 9个一般工业技术
  • 9个理学
  • 8个化学工程
  • 8个电子电信
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  • 4个机械工程
  • 4个电气工程
  • 4个文化科学
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  • 2个交通运输工程
  • 2个航空宇航科学...
  • 1个经济管理
  • 1个矿业工程
  • 1个水利工程
  • 1个农业科学

主题

  • 9个原子层沉积
  • 8个单晶
  • 8个氮化碳
  • 8个氮化碳薄膜
  • 8个氮气
  • 8个电离
  • 8个氧化锌
  • 8个氧化锌薄膜
  • 8个原子
  • 7个氮化
  • 7个氮化铝
  • 7个氮化铝薄膜
  • 7个氮化镓
  • 7个氮化镓薄膜
  • 7个导流
  • 7个等离子体辅助
  • 7个低温低压
  • 7个氧化钛薄膜
  • 7个乙烯
  • 5个等离子体

机构

  • 10个中国科学院微...
  • 4个浙江大学
  • 4个嘉兴科民电子...
  • 2个中国科学院
  • 2个中国科学技术...
  • 1个中国科学院嘉...

资助

  • 8个国家自然科学...
  • 6个国家科技重大...
  • 6个中国科学院科...
  • 4个国家高技术研...
  • 4个国家重点基础...
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  • 2个北京市科技计...
  • 1个北京市自然科...
  • 1个国家重点实验...
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  • 1个中国科学院微...

传媒

  • 7个半导体技术
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  • 2个材料导报
  • 2个发光学报
  • 2个仪表技术与传...
  • 2个光电工程
  • 2个固体电子学研...
  • 2个现代电子技术

地区

  • 10个北京市
共 10 条 记 录，以下是 1-10
万军
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 原子层沉积 化学吸附 含碳 含氮
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李超波
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 氧化锌薄膜 离子注入 等离子体 共掺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈波
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 半导体制造技术 基片 化学吸附 前驱体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
夏洋
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 等离子体 氧化锌薄膜 SUB 共掺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
石莎莉
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 控制部件 氮化硅薄膜 牺牲层 刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张艳清
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：进气口 进气 躯体 气口 调制研究
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李楠
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 启辉 等离子体 电极 半导体制造技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
饶志鹏
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 原子层沉积 化学吸附 含碳 含氮
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄成强
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 含碳 前驱体 含氮 金属表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马舒
供职机构：中国科学院微电子研究所
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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