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张艳清

作品数：9 被引量：2H指数：1
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
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合作作者

领域

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机构

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地区

  • 13个北京市
共 13 条 记 录，以下是 1-10
李超波
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 氧化锌薄膜 离子注入 等离子体 共掺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李楠
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 启辉 等离子体 电极 半导体制造技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
夏洋
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 等离子体 氧化锌薄膜 SUB 共掺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
石莎莉
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 控制部件 氮化硅薄膜 牺牲层 含氮
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
万军
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 含氮 原子层沉积 化学吸附 含碳
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吕树玲
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：进气口 进气 躯体 气口 出气
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈波
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 半导体制造技术 基片 含氮 化学吸附
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
卢维尔
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 氧化锌薄膜 共掺 受主 掺杂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
夏洋
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 等离子体浸没离子注入 刻蚀 VDMOS ALD
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵丽莉
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 离子注入 衍射效率 菲涅耳波带片 注入机
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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