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左青云

作品数:80 被引量:0H指数:0
供职机构:上海集成电路研发中心更多>>
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17 条 记 录,以下是 1-10
李铭
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:淀积 光刻 刻蚀 衬底 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康晓旭
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:像元 红外探测器 衬底 牺牲层 微桥结构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曾绍海
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:淀积 刻蚀 衬底 侧墙 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁超
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:牺牲层 空气隙 MEMS麦克风 振动膜 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄仁东
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:刻蚀 金属栅 金属 淀积 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
卢意飞
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:通孔 介质层 光刻 晶圆 量测数据
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林宏
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:空气隙 填充金属 铜互连 硅片 金属互连线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵宇航
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:图像传感器 像元 光敏元件 CMOS影像传感器 CMOS图像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
范春晖
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:硅纳米线 硅衬底 半导体 衬底 自顶向下
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周伟
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:CMOS图像传感器 光电二极管 漏极 分频器 晶体管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共2页<12>
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