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李明

作品数：1 被引量：5H指数：1
供职机构：天津理工大学光电信息与电子工程系更多>>
发文基金：天津市自然科学基金天津市高等学校科技发展基金计划项目国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇等离子体化学...
  • 1篇微波等离子体
  • 1篇微波等离子体...
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米晶
  • 1篇纳米晶薄膜
  • 1篇金刚石
  • 1篇刻蚀
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇刚石
  • 1篇O2
  • 1篇CVD

机构

  • 1篇天津理工大学

作者

  • 1篇熊瑛
  • 1篇吴小国
  • 1篇杨保和
  • 1篇孙大智
  • 1篇洪松
  • 1篇李明

传媒

  • 1篇光电子．激光

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
H_2-O_2混合气氛刻蚀制备金刚石纳米晶薄膜被引量：5
2006年
提供了在镜面抛光Si衬底上沉积平滑的纳米金刚石(NCD)薄膜的方法。采用微波等离子体化学气相沉积(CVD)系统,利用H2、CH4和O2为前驱气体,在镜面抛光的Si基片上制备了直径为5 cm的NCD薄膜,用扫描电镜(SME)和共焦显微拉曼光谱分析其表面形貌和结构特点。分析表明,利用这种方法可以制备出高sp3含量的NCD薄膜。通过与沉积时间加长而沉积条件相同情况下合成的金刚石微晶薄膜形貌相对比,分析了H2-O2混合气氛刻蚀制备NCD薄膜的机理。分析表明,基底的平滑度对O2的刻蚀作用起到重要的影响;在平滑的基底上,含量较少的O2的刻蚀作用也很明显;随着基底的平滑度下降,混合气氛中O2的刻蚀作用逐渐减弱。
熊瑛杨保和吴小国孙大智李明洪松
关键词：O2
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