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吕超

作品数：2 被引量：2H指数：1
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇机械工程

主题

  • 1篇多层膜
  • 1篇一维光子晶体
  • 1篇软X射线
  • 1篇偏振
  • 1篇频率响应
  • 1篇晶体
  • 1篇隔离器
  • 1篇光隔离
  • 1篇光隔离器
  • 1篇光子
  • 1篇光子晶体
  • 1篇反射型
  • 1篇磁光
  • 1篇磁光效应

机构

  • 2篇中国科学院上...
  • 1篇中国工程物理...
  • 1篇中国科学技术...

作者

  • 2篇吕超
  • 1篇范正修
  • 1篇丁磊
  • 1篇康学亮
  • 1篇隋展
  • 1篇易葵
  • 1篇邵建达
  • 1篇李永平
  • 1篇李国俊

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇光子学报

年份

  • 2篇2007
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
8.0nm反射式偏振膜的设计和制备
2007年
讨论了软X射线反射式偏振膜的设计原理和方法,利用设计软件模拟设计了8.0nm处的Mo/B4C偏振膜.对影响多层膜性能的参量进行了详细的误差分析.利用磁控溅射镀膜机进行了偏振膜的制备研究,X射线小角衍射测量了多层膜的周期厚度,测量数据的拟合结果与设计值吻合很好.
吕超易葵邵建达
关键词：多层膜软X射线偏振
反射型磁光多层膜隔离器的频率响应及宽容性研究被引量：2
2007年
通过传输矩阵法分析了材料介电常数的变化对于单缺陷结构的磁光多层膜隔离器性能的响,并提出了一种多缺陷结构的磁光多层膜结构.同单缺陷结构相比,多缺陷结构的旋转角的频谱响应带宽有很大增加,对于材料介电常数变化的宽容性得到了一个数量级的提高.同时这种多缺陷的结构对于膜层厚度的变化和入射角度也有很好的宽容性.
李国俊康学亮李永平吕超范正修丁磊隋展
关键词：光隔离器磁光效应一维光子晶体
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共1页<1>
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