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吕晓庆

作品数:2 被引量:5H指数:2
供职机构:合肥工业大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划安徽省自然科学基金安徽省高校省级自然科学研究项目更多>>
相关领域:一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术

主题

  • 2篇TIO
  • 1篇氧化钒
  • 1篇制备及性能
  • 1篇智能玻璃
  • 1篇相变
  • 1篇相变温度
  • 1篇缓冲层
  • 1篇光电
  • 1篇VO
  • 1篇VO2
  • 1篇
  • 1篇TIO2

机构

  • 2篇合肥工业大学
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 2篇李合琴
  • 2篇刘涛
  • 2篇吕晓庆
  • 1篇刘丹
  • 1篇宋泽润
  • 1篇周矗
  • 1篇武大伟
  • 1篇崔跃
  • 1篇何蓓

传媒

  • 1篇合肥工业大学...
  • 1篇真空

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
TiO_2/VO_2双层薄膜的制备及光电性能研究被引量:3
2012年
文章采用磁控溅射法在玻璃基底上分别制备VO2单层薄膜与TiO2/VO2双层薄膜,并在Ar气中进行退火。用X射线衍射仪、扫描电镜、紫外-可见光分光光度计、LCR测试仪对薄膜样品的晶体结构、表面形貌、可见光透过率、电阻-温度特性进行测试。结果表明,TiO2/VO2双层薄膜的相变温度降低到56℃,电阻温度系数为-1.087/℃,可见光透过率提高了20%~30%,且薄膜生长致密均匀。
吕晓庆李合琴周矗崔跃何蓓刘涛
关键词:TIO2相变温度
TiO_2缓冲层对掺钨氧化钒热敏智能玻璃的制备及性能影响被引量:4
2011年
用直流磁控溅射法在玻璃基片上先沉积TiO2缓冲层,再用直流/射频反应磁控共溅射法制备掺钨VOX薄膜,然后在氮气中退火。用X射线衍射、原子力显微镜、紫外可见光分光光度计、红外光谱仪等对薄膜的结构、表面形貌、光透过率等进行测试分析。结果表明:在溅射气压为1 Pa,氧氩气体比例为1:4,Ti靶采用100 W直流电源时,所制备的TiO2缓冲层上的掺钨VOX薄膜致密,晶粒大小均匀。掺钨VOX薄膜样品的相变温度降低至35℃,可见光透过率较高,对红外光的屏蔽效果明显。
刘涛李合琴刘丹武大伟吕晓庆宋泽润
共1页<1>
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