王海霞
- 作品数：3 被引量：17H指数：3
- 供职机构：河北工业大学信息工程学院更多>>
- 发文基金：河北省自然科学基金国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：电子电信电气工程更多>>
- 基于FPGA的高频整流SPWM波形发生器被引量：5
- 2013年
- 高频整流是降低大功率开关电源对电网谐波污染的有效手段。针对高频整流应用的需要,基于FPGA设计了一种专用的SPWM波形发生器。该波形发生器克服了目前市场上的专用SPWM芯片主要针对逆变器设计,无法与交流电网电压同步的缺陷,其输出的SPWM波形对称性好、相位可调,能够满足高频整流电路抑制谐波和调节功率因数的要求,具有广阔应用前景。
- 王海霞曾成伍萍辉
- 关键词：高频整流现场可编程逻辑门阵列
- 基于SOPC的LCD显示模块的设计与实现被引量：8
- 2012年
- 提出了一种基于SOPC技术来控制液晶显示的实现方法,利用QuartusⅡ和NiosⅡ等开发环境进行系统设计,完成硬件开发和软件开发,实现点阵LCD显示模块的功能。并对带字库的LCD显示中的中文字库、英文字库原理做了详细的说明,给出了图形显示的应用程序范例。SOPC设计可靠性高、移植性好,稍作改动,就可以改变点阵LCD显示模块的显示,扩充显示内容。
- 王海霞武一
- 关键词：SOPC技术IDE
- 碱性抛光液中纳米SiO_2磨料在Cu CMP中的作用被引量：4
- 2013年
- GLSI多层铜互连线的平坦化中,抛光液中的SiO2磨料对铜的平坦化效率具有重要的作用。研究了碱性纳米SiO2质量分数对300 mm铜去除速率和300 mm铜布线平坦化作用的影响。结果表明,随着磨料质量分数的增大,铜的去除速率增大,晶圆的均匀性变好,但磨料质量分数过高时,铜的去除速率略有降低,可能由于纳米SiO2表面硅羟基吸附在金属铜表面,导致质量传递作用变弱,引起速率降低。通过对图形片平坦化实验研究表明,随着磨料质量分数的增大,平坦化能力增强,这是因为磨料的质量分数增大使得高低速率差增大,能够有效消除高低差,实现平坦化。
- 郑伟艳刘玉岭王辰伟王萌戎向向王海霞田巧伟
- 关键词：铜布线去除速率
