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邓刚
作品数:
1
被引量:7
H指数:1
供职机构:
重庆光电技术研究所
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相关领域:
电子电信
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合作作者
韩恒利
重庆光电技术研究所
钟四成
重庆光电技术研究所
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重庆光电技术...
作者
1篇
钟四成
1篇
韩恒利
1篇
邓刚
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电子科技
年份
1篇
2014
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背照式CCD图像传感器减薄技术研究
被引量:7
2014年
提出了一种研磨减薄和化学腐蚀结合的方法,减薄CCD衬底。研磨减薄采用三氧化二铝的颗粒,减薄硅片至100μm,化学腐蚀采用HF酸、硝酸、冰乙酸组成的混合溶液。实验表明,HF酸、硝酸、冰乙酸比例为2∶1∶11时,混合溶液对衬底与外延层的腐蚀速率比达到89∶1。使用本技术减薄1 024×512可见光CCD,实现了背照式成像。
邓刚
韩恒利
钟四成
关键词:
CCD
减薄
成像
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