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高文兰

作品数:6 被引量:9H指数:1
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:机械工程电子电信理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 2篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 4篇光学
  • 4篇光学元件
  • 3篇点胶
  • 3篇平面度
  • 2篇元件
  • 2篇原位
  • 2篇数控
  • 2篇数控编程
  • 2篇铁块
  • 2篇平面度误差
  • 2篇平面光学元件
  • 2篇口径
  • 2篇基板
  • 2篇残余应力
  • 2篇充磁
  • 1篇数值模拟
  • 1篇抛光
  • 1篇平面度测量
  • 1篇值模拟

机构

  • 6篇中国科学院上...
  • 1篇华中科技大学
  • 1篇上海恒益光学...

作者

  • 6篇顿爱欢
  • 6篇徐学科
  • 6篇高文兰
  • 5篇邵建达
  • 4篇吴福林
  • 2篇杨明红
  • 2篇曹俊
  • 1篇劭建达
  • 1篇魏朝阳
  • 1篇范永涛
  • 1篇方媛媛
  • 1篇王哲

传媒

  • 1篇光学精密工程
  • 1篇中国激光

年份

  • 1篇2020
  • 2篇2018
  • 1篇2017
  • 2篇2016
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
一种薄形平面光学元件磁性消应力上盘方法
一种薄形平面光学元件磁性消应力上盘方法:1)加工直径为2‑10mm,厚度2‑5mm的圆柱形磁铁块;2)对加工好的圆柱形磁铁块进行充磁,3)用研磨的方法将上盘基板工作面的平面度误差降低至小于0.01mm;4)将圆柱形的磁铁...
高文兰朱宝玪徐学科顿爱欢吴福林邵建达
文献传递
光学元件原位自动点胶装置和点胶方法
一种光学元件原位自动点胶装置和点胶方法,包括点胶头、激光定位器、Y轴导轨、支撑滚轮、X轴导轨、Z轴导轨、胶点实时监控CCD、数控编程控制器以及底座等。本发明适用于不同口径光学元件传统点胶上盘加工过程中的点胶工序,可实现不...
顿爱欢邵建达高文兰曹俊徐学科吴福林
一种薄形平面光学元件磁性消应力上盘方法
一种薄形平面光学元件磁性消应力上盘方法:1)加工直径为2‑10mm,厚度2‑5mm的圆柱形磁铁块;2)对加工好的圆柱形磁铁块进行充磁,3)用研磨的方法将上盘基板工作面的平面度误差降低至小于0.01mm;4)将圆柱形的磁铁...
高文兰朱宝玪徐学科顿爱欢吴福林邵建达
文献传递
光学元件原位自动点胶装置和点胶方法
一种光学元件原位自动点胶装置和点胶方法,包括点胶头、激光定位器、Y轴导轨、支撑滚轮、X轴导轨、Z轴导轨、胶点实时监控CCD、数控编程控制器以及底座等。本发明适用于不同口径光学元件传统点胶上盘加工过程中的点胶工序,可实现不...
顿爱欢邵建达高文兰曹俊徐学科吴福林
文献传递
大型环抛机蜡盘平面度的测量被引量:8
2016年
针对大口径平面光学元件全频谱面形技术指标的高效率、高精度收敛,研究了环形抛光技术。考虑环抛机沥青蜡盘的平面度直接影响工件面形的收敛效率,本文利用准直激光束作为参考,设计研制了测量精度高,重复性精度达到±1μm的大型环抛机抛光蜡盘平面度测量专用装置。分析了环抛过程中蜡盘表面平面度和工件面型PV值之间的变化规律和相关性,根据测量数据得出了蜡盘平面度数据和工件面形的对应关系。实验显示:当平面度和面形曲线相差较大时,工件面形可快速收敛至1λ左右,并由粗抛向精抛工序快速过渡。提出的大型环抛机抛光蜡盘平面度监测装置实现了对湿滑胶体平面的高精度、快速测量,为环抛的确定性抛光工艺提供了重要的技术支持。
王哲徐学科邵建达顿爱欢杨明红范永涛方媛媛高文兰刘方
关键词:平面度测量
光学薄片点胶的数值分析及优化被引量:1
2017年
采用热弹性模型,对光学薄片点胶过程进行了有限元分析。对点胶后影响工件面形变化(Δp)的工艺参数进行了优化。研究结果表明,对于光学薄片(直径为100mm,厚度为2mm),宜选择具有高弹性模量和低热膨胀系数的薄底板材料,且胶点的半径、个数及弹性模量越小,Δp越小;胶点位置应该避开高Δp区域;胶点的热膨胀系数对Δp的影响较小。
吴伦哲高文兰顿爱欢杨明红魏朝阳徐学科劭建达
关键词:抛光数值模拟
共1页<1>
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