利用直流反应磁控溅射的方法和后退火技术在石英衬底上制备不同Cd含量的Zn_（1-x）Cd_xO（0≤x≤1）薄膜.利用XRD、XPS、TEM、Absorption及Hall等详细地对薄膜的结构、光学及电学性能进行了研究.研究发现：当x=0~0.2时,Zn_（1-x）Cd_xO薄膜为沿（002）方向择优生长的六角相结构;当x=0.5时,合金薄膜出现了六角相和立方相共存现象;当x≥0.8时,合金薄膜为沿（200）方向择优生长的立方相结构.结构为六角相时,合金薄膜的带隙从x=0时的3.25 e V减小到x=0.2时的2.75 e V;结构为立方相时,薄膜的带隙从x=0.8时的2.52 e V减小到x=1时的2.42 e V,带隙的变化很小.另外,霍尔测量结果表明,Cd含量对Zn_（1-x）Cd_xO薄膜的电学性质影响很大.
