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刘晰

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：兰州大学物理科学与技术学院磁性材料研究所更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇硬磁
  • 1篇湿法刻蚀
  • 1篇子层
  • 1篇巨磁电阻
  • 1篇刻蚀
  • 1篇溅射
  • 1篇GMR
  • 1篇磁电
  • 1篇磁电阻
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇兰州大学
  • 1篇清华大学

作者

  • 1篇任天令
  • 1篇郑洋
  • 1篇刘理天
  • 1篇曲炳郡
  • 1篇韦丹
  • 1篇魏福林
  • 1篇刘晰

传媒

  • 1篇功能材料与器...

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
GMR硬磁偏置层加工技术被引量：1
2010年
磁控溅射是一种能够在低温条件下生长大面积优质薄膜的工艺,广泛用在磁传感器和存储等领域。本文研究了在巨磁电阻(Giant Magneto Resistance:GMR)多层膜周围溅射接触紧密的CoCrPt硬磁膜的工艺,使得硬磁膜能为GMR提供磁场偏置,以解决小尺度GMR的噪声问题。研究中采用了1:5的BHF溶液的湿法刻蚀工艺,刻蚀速率为25 A/s,实现了刻蚀深度的精确控制,解决了薄膜对准的问题。同时改进了CoCrPt薄膜溅射的种子层,使得CoCrPt能在常温下溅射得到很好的晶体结构。这种工艺为基于GMR的小尺寸器件设计提供了可能性。
郑洋刘晰曲炳郡韦丹魏福林任天令刘理天
关键词：巨磁电阻磁控溅射湿法刻蚀
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