2024年8月26日
星期一
|
欢迎来到南京江宁区图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
刘晰
作品数:
1
被引量:1
H指数:1
供职机构:
兰州大学物理科学与技术学院磁性材料研究所
更多>>
相关领域:
理学
更多>>
合作作者
魏福林
兰州大学物理科学与技术学院磁性...
韦丹
清华大学材料科学与工程系
曲炳郡
清华大学
刘理天
清华大学
郑洋
清华大学
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
1篇
中文期刊文章
领域
1篇
理学
主题
1篇
硬磁
1篇
湿法刻蚀
1篇
子层
1篇
巨磁电阻
1篇
刻蚀
1篇
溅射
1篇
GMR
1篇
磁电
1篇
磁电阻
1篇
磁控
1篇
磁控溅射
机构
1篇
兰州大学
1篇
清华大学
作者
1篇
任天令
1篇
郑洋
1篇
刘理天
1篇
曲炳郡
1篇
韦丹
1篇
魏福林
1篇
刘晰
传媒
1篇
功能材料与器...
年份
1篇
2010
共
1
条 记 录,以下是 1-1
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
GMR硬磁偏置层加工技术
被引量:1
2010年
磁控溅射是一种能够在低温条件下生长大面积优质薄膜的工艺,广泛用在磁传感器和存储等领域。本文研究了在巨磁电阻(Giant Magneto Resistance:GMR)多层膜周围溅射接触紧密的CoCrPt硬磁膜的工艺,使得硬磁膜能为GMR提供磁场偏置,以解决小尺度GMR的噪声问题。研究中采用了1:5的BHF溶液的湿法刻蚀工艺,刻蚀速率为25 A/s,实现了刻蚀深度的精确控制,解决了薄膜对准的问题。同时改进了CoCrPt薄膜溅射的种子层,使得CoCrPt能在常温下溅射得到很好的晶体结构。这种工艺为基于GMR的小尺寸器件设计提供了可能性。
郑洋
刘晰
曲炳郡
韦丹
魏福林
任天令
刘理天
关键词:
巨磁电阻
磁控溅射
湿法刻蚀
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张