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孙剑

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：三束材料改性国家重点实验室更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇国内会议论文

主题

  • 1篇等离子体辅助
  • 1篇电子回旋共振
  • 1篇烧蚀
  • 1篇激光
  • 1篇激光烧蚀
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇光致发光特性
  • 1篇发光
  • 1篇发光特性

机构

  • 2篇三束材料改性...

作者

  • 2篇吴嘉达
  • 2篇伍长征
  • 2篇李富铭
  • 2篇钟晓霞
  • 2篇孙剑

传媒

  • 2篇第三届中国功...

年份

  • 2篇1998
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
电子回旋共振等离子体辅助的反应脉冲激光沉积方法制备氮化物薄膜
了一种电子回旋共振等离子体辅助的反应脉冲激光沉积方法，这一方法结合了反应脉冲激光沉积和电子回旋共振等离子体的特点。用这一方法尝试进行氮化硅薄膜，得到了成分分布均匀的膜层。这一方法也运用于制备其它化合物薄腰。
吴嘉达钟晓霞孙剑伍长征李富铭
纳米硅颗粒膜的制备及其光致发光特性的研究
于激光烧蚀的沉积方法制备了纳米硅颗粒膜。烧蚀靶材为单晶硅，氩气用作环境气体。颗粒的形状和尺寸用透射电镜观察，得到的颗粒大小为纳米量级，纳米硅颗粒膜具有较强的可见波段的光致发光能力，光发射的强度和光谱分布还与温度有关。
吴嘉达钟晓霞孙剑伍长征李富铭
关键词：光致发光激光烧蚀
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