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王一佳

作品数:3 被引量:11H指数:2
供职机构:中南大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
相关领域:机械工程理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 1篇氮化铝
  • 1篇氮化铝薄膜
  • 1篇电磁
  • 1篇电磁场
  • 1篇电化学氧化
  • 1篇电化学氧化法
  • 1篇电子发射
  • 1篇压痕
  • 1篇氧化法
  • 1篇有机废水
  • 1篇射频磁控
  • 1篇石墨
  • 1篇偶氮染料
  • 1篇偶氮染料废水
  • 1篇气相沉积
  • 1篇染料
  • 1篇染料废水
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米压痕
  • 1篇金刚石

机构

  • 3篇中南大学

作者

  • 3篇魏秋平
  • 3篇余志明
  • 3篇王一佳
  • 2篇马莉
  • 1篇刘丹瑛
  • 1篇周科朝
  • 1篇龙芬
  • 1篇张雄伟
  • 1篇李伟
  • 1篇张明全
  • 1篇童臻
  • 1篇李嘉馨

传媒

  • 2篇表面技术
  • 1篇粉末冶金材料...

年份

  • 2篇2017
  • 1篇2014
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
电磁场辅助HFCVD制备高场发射性能薄膜被引量:1
2017年
目的提高碳素薄膜的场发射性能。方法在热丝化学气相沉积(HFCVD)技术的基础上,针对不同的甲烷浓度(体积分数,全文同)1%和5%,通过施加外场(电场、磁场以及电磁耦合场)分别调控出不同组织结构的薄膜。采用SEM观察薄膜的表面形貌,用Raman检测薄膜的成分,用场发射测试装置来表征薄膜的场发射性能。结果外场作为革新传统工艺的手段,可以影响HFCVD沉积过程。磁场的主要作用是降低晶粒尺寸,电场能够有效促进sp^3相向sp^2相转变,电磁耦合场在此基础上,还可以有效调控出高长径比的表面形貌。甲烷浓度为1%时,制备了金刚石薄膜,开启电场为11.2 V/μm,加入电场或电磁耦合场后,薄膜表面被刻蚀,发生金刚石向石墨的转变,开启电场降低到6.75 V/μm,场发射性能提高。甲烷浓度为5%时,加入磁场、电场制备的薄膜,开启电场由12.75 V/μm依次下降为11.5、9 V/μm,电磁耦合场的刻蚀作用可以获得尖锥状的形貌,且石墨相含量高,开启电场最低(5.65 V/μm),场发射性能最好。结论采用外场(电场、磁场以及电磁耦合场)辅助HFCVD的方式可以制备出多种薄膜,电磁耦合场在较高甲烷浓度时,不但可以提高石墨相含量,还可以获得高长径比的表面形貌,可有效提高薄膜的场发射性能。
李嘉馨蒋云露胡乃修王一佳魏秋平余志明马莉周科朝
关键词:化学气相沉积金刚石石墨场致电子发射
硼掺杂金刚石电极降解活性橙X-GN偶氮染料废水的研究被引量:7
2017年
目的研究硼掺杂金刚石(BDD)电极电化学氧化降解活性橙X-GN偶氮染料废水。方法采用热丝气相沉积法(HFCVD)制备铌基BDD电极,采用SEM观察BDD薄膜的表面形貌,用Raman检测BDD薄膜的成分,用电化学工作站测试BDD电极的电化学性能。选择活性橙X-GN染料废水作为降解对象,分别研究电流密度(20、50、100、150 m A/cm^2)、电解质浓度(0.025、0.05、0.1 mol/L)和溶液初始pH(3.78、6.74、10.92)等不同工艺参数对降解效率的影响,并采用紫外可见光分光光度计进行测试表征,使用能耗和总有机碳量表征降解效果。结果 BDD电极具有很好的电催化性能,其电势窗口为3.33 V,析氧电位达到2.45 V,远高于大多数有机物的氧化电位,电极表面反应受扩散步骤控制。结合活性橙X-GN染料溶液降解效果,得出100 mg/L活性橙X-GN溶液的最佳降解工艺参数为:电流密度100 m A/cm^2、电解质浓度0.05mol/L、溶液初始pH值3.78。采用最佳工艺参数处理5 h后,色度移除率达到99%,能耗为65.4 k W·h/m^3,TOC去除率达到56.95%。结论 BDD电极可以有效地降解活性橙X-GN染料废水。
张明全王一佳曾思超李伟童臻魏秋平余志明马莉
关键词:偶氮染料有机废水电化学氧化法
氮气含量对射频磁控溅射法制备的AlN薄膜微观结构与力学性能的影响被引量:3
2014年
用Ar气和N2气分别作为溅射气体和反应气体,采用射频反应磁控溅射法,通过调节工作气体(Ar气与N2气的混合气体)中N2的含量(体积分数)φ(N2),在硅(100)衬底上制备一系列六方结构AlN多晶薄膜,利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和纳米压痕仪等对薄膜特性进行测试与分析。结果表明,φ(N2)对AlN薄膜的择优取向、结晶性、沉积速率与力学性能的影响都十分显著,对薄膜的微观结构和表面粗糙度也有一定影响:随φ(N2)增大,薄膜的厚度和沉积速率逐渐减小,结晶性也发生显著变化;较高的φ(N2)有利于AlN薄膜沿(002)晶面择优生长;φ(N2)对AlN薄膜的硬度影响较大,而对弹性模量影响较小。实验制备的AlN薄膜具有良好的纳米力学性能,硬度平均值在12.0~29.3 GPa之间,弹性模量平均值在184.0~209.8 GPa之间。
余志明刘丹瑛魏秋平张雄伟龙芬罗嘉祺王一佳
关键词:氮化铝薄膜反应溅射纳米压痕
共1页<1>
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