付文博
- 作品数：5 被引量：2H指数：1
- 供职机构：中国工程物理研究院更多>>
- 发文基金：中国工程物理研究院科学技术发展基金中国工程物理研究院科技发展基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学化学工程更多>>
- 储氢金属Er/Ti双层膜的制备及吸氘性能研究
- 在Mo衬底上制备Er/Ti双层膜,并对样品进行氘化实验,使用XRD和SEM研究了氧化层及氘化工艺对Er/Ti双层膜物象结构及表面形貌的影响。结果表明,两种沉积方式制备的Er/Ti膜均为hcp结构,Er膜短暂暴露大气后会迅...
- 付文博丁伟刘锦华姚冰周晓松龙兴贵
- 关键词：双层膜脱膜
- 衬底材料对Ti膜形貌及结构的影响
- 使用电子束蒸发法在抛光Mo、石英和单晶硅衬底上沉积了Ti薄膜,并用AFM、XRD及SEM对衬底及薄膜的表面形貌和微观机构进行了分析。结果表明:Ti膜的表面形貌和微观结构受衬底材料影响较大。抛光Mo衬底上的Ti膜表面有微小...
- 付文博刘锦华梁建华杨本福周晓松程贵钧王维笃
- 关键词：衬底微观结构扩散
- 文献传递
- 薄膜理想台阶的制备方法研究
- 2013年
- 目的研究台阶的形貌对台阶仪测试的影响,准确测试薄膜的厚度。方法分析制备台阶中存在的问题,针对这些问题设计了中轴线位置带掩膜条的掩膜板,并采用该新型掩膜板,在不同衬底上制备台阶,用台阶仪对薄膜的厚度进行测定。结果在薄膜中轴线附近做出的台阶,坡度陡峭,上下表面清晰。Mo衬底上制备出的薄膜厚度重复性较好;单晶硅衬底上制备的薄膜表面粗糙度较大;石英衬底上制备薄膜形成的台阶上下表面均较为平滑。结论使用新型掩膜板在石英衬底上制备出理想台阶,可较为准确地测试薄膜的厚度。
- 付文博梁建华王维笃周晓松杨本福程贵均
- 关键词：膜厚粗糙度
- 衬底材料对Ti膜形貌及结构的影响被引量：1
- 2016年
- 使用电子束蒸发法在抛光Mo、石英和单晶硅衬底上沉积Ti薄膜,并用SPM、XRD及SEM对衬底及薄膜的表面形貌和微观结构进行了分析。结果表明:Ti膜的表面形貌和微观结构受衬底材料影响较大。抛光Mo衬底上的Ti膜表面有微小起伏,断面处发现Ti膜先在衬底形核,后以柱状颗粒的形式竖直向上生长;抛光石英衬底上的Ti膜表面平整,颗粒与界面清晰可见,在界面处有一层等轴晶;粗糙度最低的单晶硅基片上沉积的Ti膜表面反而最粗糙,通过XRD分析发现有TiSi_2的峰存在。
- 付文博刘锦华梁建华杨本福周晓松程贵钧王维笃
- 关键词：衬底形核薄膜生长
- 二维材料分离氢同位素的第一性原理研究
- 氢同位素分离是衡量国力与保障国防安全的技术手段,常用于氢同位素的生产、提取、监测与安全控制等环节。传统的氢同位素分离方法在分离过程中大都需要高温或低温设备,这一限制条件极大地增加了分离过程中的能耗,给氢同位素分离带来了极...
- 付文博
- 关键词：电解质质子导体
- 文献传递
