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冷文健

作品数：2 被引量：5H指数：1
供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
发文基金：国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇电性能
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇铁电
  • 1篇铁电薄膜
  • 1篇微结构
  • 1篇介电
  • 1篇介电性
  • 1篇介电性能
  • 1篇溅射
  • 1篇TIO
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇X
  • 1篇PB
  • 1篇PST

机构

  • 2篇电子科技大学

作者

  • 2篇裴亚芳
  • 2篇张继华
  • 2篇杨传仁
  • 2篇陈宏伟
  • 2篇冷文健

传媒

  • 1篇绝缘材料
  • 1篇压电与声光

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2006
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
Pb_xSr_(1-x)TiO_3陶瓷及薄膜的制备和性能研究
2007年
研究了Pb的摩尔分数对PbxSr1-xTiO3（x=0．2～0．8）陶瓷微结构和介电性能的影响，当x〈0．45时晶体为立方相，x≥0．45时为四方相；随着Pb的摩尔分数增大，陶瓷气孔率下降，致密度增加，晶粒尺寸逐渐增大，居里峰近似线性地向高温方向移动，并具有一致的居里外斯常数。采用射频磁控溅射法在Pt／Ti／SiO2／Si（100）上制备了Pb0.3Sr0．7TiO3（PST30）薄膜，经550℃退火后为（111）择优取向的多晶薄膜，1kHz下的可调率为21．8％。
裴亚芳杨传仁陈宏伟张继华冷文健
关键词：射频磁控溅射微结构介电性能
钛酸锶铅铁电薄膜的制备、应用及其研究进展被引量：5
2006年
综述了钛酸锶铅(PST)铁电薄膜目前最常用的4种制备工艺:溶胶-凝胶(Sol_gel)法、磁控溅射(Magnetron Sput-tering)、脉冲激光沉积(PLD)和金属有机化学气相沉积(MOCVD),并简要介绍了PST目前的研究进展以及PST薄膜在铁电移相器、动态随机存储器(DRAM)和热释电红外探测器方面的应用,提出了发展展望。
裴亚芳杨传仁陈宏伟张继华冷文健
关键词：铁电薄膜
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共1页<1>
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