吕方
- 作品数：3 被引量：0H指数：0
- 供职机构：清华大学材料科学与工程系先进材料教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 离子束辅助沉积Co50Nb50薄膜表面结构的研究
- 本文利用离子束辅助沉积技术,通过改变离子束入射方向与薄膜表面法线的夹角,制备了一系列厚度为50nm的Co50Nb50薄膜,并研究了离子束入射方向对薄膜表面结构的影响。实验中,离子束入射角分别为0°、30°、45°、75°...
- 吕方曾飞谷宇潘峰
- 文献传递
- 离子束入射角度对Co50Nb50薄膜微结构的影响
- 2007年
- 利用离子束辅助沉积技术,通过改变离子束入射方向与薄膜表面法线的夹角,制备了一系列厚度为50 nm的Co50Nb50薄膜,并研究了离子束入射方向对薄膜表面结构的影响.实验中,离子束入射角分别为0°,30°,45°,75°和85°(掠射).研究结果表明,所得到的薄膜均为非晶结构.离子束垂直入射(0°入射)时,薄膜表面产生渗流花样;入射角为30°时,渗流现象更加明显,薄膜表面粗糙度增大;随入射角增至45°,表面渗流现象减弱,薄膜变得平整;当入射角进一步增加到为75°,薄膜表面出现平行于入射方向的纳米条纹;离子束掠入射(85°入射)时,薄膜表面条纹的平均宽度减小,均匀性提高.研究表明上述表面结构的变化是原子沉积、离子束溅射和沉积原子热扩散共同作用的结果.
- 吕方曾飞谷宇潘峰
- 关键词：离子束辅助沉积微结构
- 离子束入射角度对Co50Nb50薄膜微结构的影响
- 利用离子束辅助沉积技术,通过改变离子束入射方向与薄膜表面法线的夹角,制备了一系列厚度为50 nm 的 CoNb薄膜,并研究了离子束入射方向对薄膜表面结构的影响。实验中,离子束入射角分别为 0°,30°,45°,75°和8...
- 吕方曾飞谷宇潘峰
- 关键词：离子束辅助沉积微结构
- 文献传递
