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周超兰

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：武汉理工大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金：国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇碳化硅
  • 1篇化学镀
  • 1篇化学镀法
  • 1篇复合粉
  • 1篇复合粉末
  • 1篇包覆
  • 1篇钴
  • 1篇沉积速率

机构

  • 1篇武汉理工大学

作者

  • 1篇甘慧慧
  • 1篇张高科
  • 1篇周超兰

传媒

  • 1篇武汉理工大学...

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
化学镀法制备钴包覆碳化硅复合粉末的研究被引量：3
2011年
采用化学镀法制备钴包覆碳化硅复合粉末,通过研究化学镀过程中钴盐浓度、还原剂浓度、络合剂浓度、缓冲剂浓度、温度以及pH值等因素对沉积速率的影响规律,得到化学镀钴的优化条件。利用XRD、SEM和EDAX等测试手段对该复合粉末的组分及形貌进行了表征。实验和表征结果表明,当硫酸钴浓度为30～50g/L,次磷酸钠浓度为40g/L,柠檬酸钠浓度为60～70g/L,控制温度为50～70℃以及调节pH值等于8时,镀层沉积速度较快,所得粉体表面被钴均匀包覆。
周超兰张高科甘慧慧
关键词：化学镀法碳化硅钴沉积速率
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