高星
- 作品数：1 被引量：1H指数：1
- 供职机构：中国科学院上海应用物理研究所更多>>
- 发文基金：中国科学院知识创新工程国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构被引量：1
- 2011年
- 在上海光源BL14W1线站建立了掠入射XAFS(GI-XAFS)方法,利用GI-XAFS方法并结合X射线反射(XRR)研究了直流磁控溅射方法生长在W/Si基底上的Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构随Ni层厚度的变化。结果表明,随着薄膜厚度的增加,Ni/Ti界面层间的相互扩散有所增加,Ni层厚度为5 nm时,Ni/Ti界面层间的扩散厚度为2 nm左右;Ni层厚度为1 nm时,由于无序度较大,Ni-Ni配位和Ni-Ti配位的键长有所收缩;随着薄膜Ni层厚度的减小,无序度逐渐增加,Ni-Ti配位增加,Ni-Ni配位减少。
- 于海生黄宇营魏向军姜政王建强顾颂琦张硕高星
- 关键词：掠入射
